1. 建模任务 E
*782> 1.1
模拟条件
hd`jf97* 模拟区域:0~10
p!\GJ a", 边界条件:Periodic
"@t bm[ 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
XQ8q)B= 单位长度:0.5
n"@){:{4?
@S6@pMo, C*
0ZF 1.2堆栈
结构 S#T u/2<} |<uBJ-5 2. 建模过程 {YwdhwJP 2.1设置模拟条件
ST,+]p3L(
apnpy\in f*VXg[&\\F 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 .9UrWBW\I gu&W:FY aq#F 2.3创建掩膜并生成多畴结构
e{^^u$C1.e
pQ7<\8s* 3. 结果分析 SH O&:2 3.1 指向矢分布和透过率
{`(MK6D8 c KDj/S-S 1-Dw-./N 3.2所有畴的V-T曲线
\+:`nz3m T# gx2Y /)<kG(Z 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
^oNcZK>