1. 建模任务 cIgF]My*D@ 1.1
模拟条件
n8?gZ` W 模拟区域:0~10
P=h2Z,2 边界条件:Periodic
=$m|M
m[a 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
\^+sgg{ 单位长度:0.5
=q._Qsj?fu
8Hhe&B zn M"P|A 1.2堆栈
结构 ]`MRH[{ }, ]W/ 2. 建模过程 B *:6U+I 2.1设置模拟条件
P"- ,^?6
0q/g:"|j ?Z;knX\?J 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 Bp}<H<@ ZXco5,1 `Z{7Ut^) 2.3创建掩膜并生成多畴结构
6gp3n;D
~d
}- 3. 结果分析 5L4~7/kj 3.1 指向矢分布和透过率
`T-(g1:9 t+vn.X+& oV*3Mec 3.2所有畴的V-T曲线
%3q@\:s ~<|xS
BqR8%F 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
b2Ct^`|M5