1. 建模任务 &$Ip$"H 1.1
模拟条件
^aM/BS\ 模拟区域:0~10
Us~wv"L=UX 边界条件:Periodic
m<LzB_G\ 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
Y~?YA/.x 单位长度:0.5
90696v.
N<r0I- en6AAr:U} 1.2堆栈
结构 xfQ;5n \D k^\- 2. 建模过程 F7u%oLjr 2.1设置模拟条件
mpJ_VS`
2Sd6b 2- ]1$AAmQH 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 x(6.W"-S JV{!Ukuyp+ /FZ )ej\ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
1,D
^, _^$b$4) 3. 结果分析 g
{wPw 3.1 指向矢分布和透过率
! r\ktX APm[)vw#f AQGE(%X 3.2所有畴的V-T曲线
(MU7 ?^GsR[-x j0NPd^ 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
-mdPqVIJn: