1. 建模任务 IdM~'
Q>\ 1.1
模拟条件
9F[_xe@ 模拟区域:0~10
T.jCF~%7F 边界条件:Periodic
Nv^byWqu 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
je5[.VT M 单位长度:0.5
^qzH(~g{M
K?Sy?Kz w2 r 1.2堆栈
结构 &B]1 VZUp e^'|<0J 2. 建模过程 PQp =bX, 2.1设置模拟条件
[2Zl
'+
RD46@Q` k?$I4&|5Nt 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 XDHi4i47`o 6']HmM L^r & .N\ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
e,,O lB0`|UEb ( 3. 结果分析 kIX1u<M~ 3.1 指向矢分布和透过率
bAbR0) GGf<9!: tJybR"NQ 3.2所有畴的V-T曲线
%pxO<O |-)8=QDz)r !sSq 4K 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
z:@:B:E