1. 建模任务 >nL9%W}8M 1.1
模拟条件
x>yeF,q1 模拟区域:0~10
ORo +=2 边界条件:Periodic
O]Mz1 ev| 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
Tpv]c 单位长度:0.5
K(M@#t1_&
-gP4| r8& Q*+_%n1
/ 1.2堆栈
结构 EFgs}BV_9 `ju r`^S| 2. 建模过程 1JU1XQi 2.1设置模拟条件
nPj+mg
p<@0b ?*~Pgh >uL 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 mj{/' Z~-A*{u? cQaEh1n 2.3创建掩膜并生成多畴结构
DfCo= ]c8O"4n
n 3. 结果分析 Q7]VB p4 3.1 指向矢分布和透过率
p?X`f# :W/,V^x} T F !Lp: 3.2所有畴的V-T曲线
Ij_VO{]G'l ?'_Q^O> ZhWtY 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
QcQ:hHF