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摘要 b7uxCH]Z
>IT19(J;A 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 R(t1Ei.-? s!g06F
jx=5E6(h a62'\wF>D 本用例展示了...... yhPO$L •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: S'
<X) - 矩形光栅界面 @r130eLh - 过渡点列表界面 6?`3zdOeO - 锯齿光栅界面 k00&+C - 正弦光栅界面 q2{Aq[ •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 vB?(| 7;8DKY q 光栅工具箱初始化 nSSj&q- O •初始化 lWyg_YO@ - 开始 {SRv=g 光栅 "AuU5G 9'I 通用光栅光路图 &Hj1jM' •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, #;(Q \ 可直接选择特定的光路图。 0Yo(pW,k 1m{c8Z.h/d
"KHe6otmi_ -s_=4U, 光栅结构设置 hpBn_ •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 b/]@G05>>
0l'"idra •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 M> rertUR •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 Xw'Y
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E%&E<<nhZ %;ZDw@_< •例如,选择第一个界面上的堆栈。 U|jip1\ Fo;. 堆栈编辑器 4yDWVd; •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 E]gy5y •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 cs-dvpMZ j"4]iI+ {"
knABlU ^@-qnU lH 矩形光栅界面 Egm-PoPe =vD}O@tN •一种可能的界面是矩形光栅界面。 # n\|Q\W •此类界面适用于简单二元结构的配置。 ;/~%D( •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 WW3! ,ln_ •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 sOBuJx${m •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 |Qz"Z<sNYw M1,1J-h
o#frNT} eCy]ugsi% 矩形光栅界面 IWNIk9T,u •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 pcO{%]?p •所选界面在视图中以红色突出显示。 mKZ^FgG
)#0Llx! •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 :}+m[g •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 F m$;p6&j $[HpY)MSRw •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 EWp'zbWP •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 x-Fl|kwX.5 •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 ?t"bF :! N,?D<NjXl MtXd}/ Mb\[` 4z
uTIl} N {3kI~s 矩形光栅界面参数 kOLS<>. •矩形光栅界面由以下参数定义 Yvxp( - 狭缝宽度(绝对或相对) 1+NmiGKg - 光栅周期 fud Lm - 调制深度 gt:Ot0\7 •可以选择设置横向移位和旋转。 Xb5$ijH SX6P>:`
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A' h7D s[tFaB 1 高级选项和信息 ~glFB`?[ •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 BGZvgMxLJ •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 -"X}
)N2 •可以设置总级次数或衰逝波级次数 K0\Wty0 (evanescent orders)。 SPY4l*kX •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 d){Al(/ •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 }RY&f4&GV, x|IG'R1:Y CJ
9tO#R Bl8&g]dk •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 _<P~'IN+n •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 5jBBk*/\ •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 !Knv/:+ •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 ,O}2LaK.O yi9c+w)b fP
5!`8 *|Fl&`2 过渡点列表界面 ^_^rI+cTX1 •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 oO)KhA?y •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 z0m[25FQG •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 L7&| )#n>))
%D:5 S?{ 过渡点列表参数 R
WU,v{I9 •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 _ Oe|ZQ •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 -!p-nk@9| 3kBpH7h4 rO`nS<G 7OOod1 •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 C'$}!p70 •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 y:zo/#34 •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 |uE_aFQs f{[,!VG
sP NAG
TAu*lL(F 高级选项及信息 .DkDMg1US •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 4c_F>Jw[ @tLoU%
8Bnw//_pT V6ioQx=K# 正弦光栅界面 fKY1=3 •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 WPM<Qv L •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 fJ3qL#' •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: uPpRzp - 脊的材料:基板的材料 {@u}-6:wAT - 凹槽材料:光栅前面的材料 cMEM}Qh
T J}.y+b>8\ =9;jVaEMJL Px4zI9;cB 正弦光栅界面参数 aUy=D:\ - 正弦光栅界面也由以下参数定义: p3eJFg$ •光栅周期 uhLg2G^h •调制深度 1% )M-io - 可以选择设置横向移位和旋转。 uXNf)?MpA - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 @zJ#16Vi 7=ZB;(`L1 | We @p 5W!E.fz*T 高级选项和信息 s geP`O% •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 m(3bO[u1 ::vw1Es
GfQP@R" o+O\VNW 高级选项及信息 -7">A~c •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 NCvwg ~::gLm+f gHlahg 锯齿光栅界面 ^tuJM: •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 ,U'Er#U •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 t
MB;GIb# •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: DZXv3gnX - 脊的材料:基板的材料 A?;/]m; - 凹槽材料:光栅前面的材料 ,7M9f &K^h'>t'
r\[HR ^` N_VAdNJ^: 锯齿光栅界面参数 .@APxeU •锯齿光栅界面也由以下参数定义: %p2 C5z? - 光栅周期 3a{QkVeV7 - 调制深度 ~pj9_I •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 &/\0_CoTR\ •可以选择设置横向移位和旋转。 "eQ9 6^'J •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 z PV/{)S <UQ:1W8>B $vy.BYFm
W{;!JI7;z 高级选项和信息 f8?K_K;\ •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 `s:| 4;.
8XJ%Yuu 探测器位置的注释 =-`+4zB\ 关于探测器位置的注释 s !8]CV> •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。 3<+l.Wly •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 ?EX'j
> •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 jgbw'BBu •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 p]+W1 v}V! •可以避免这些干涉效应的不良影响。 &9s6p6eb hkU#
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