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摘要 n
\&H~0X @x*,fk 光栅结构广泛用于光谱仪、近眼显示系统等多种应用。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态方法(FMM)以简易的方式提供对任意光栅结构的严格分析。在光栅工具箱中,可以通过使用堆栈内的各种接口或/和介质来配置光栅结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面是人性化的,并且可用于生成更复杂的光栅结构。 本用例中,介绍了基于界面的光栅结构的配置具体操作流程。 yy3`E}vX7 Q yQ[H
/Vx
EqIK -`t9@1P>
= 本用例展示了...... ,hT**(W •如何使用界面配置光栅工具箱中的光栅结构,例如: }R hSt] - 矩形光栅界面 : 'jVA - 过渡点列表界面 'I r - 锯齿光栅界面
9p4SxMMO - 正弦光栅界面 4 .(5m\s! •如何在计算之前更改高级选项并检查定义的结构。 RyWfoLc 2Z`Jr/ 光栅工具箱初始化 q+w] Xs; •初始化 Vk76cV
D - 开始 : 'pK 光栅 Ngm/5Lc 通用光栅光路图 ]2[\E~^KU •注意:使用特殊类型的光栅,例如: 矩形形状, XuU>.T$] c 可直接选择特定的光路图。 Z 2$S'}F cBCC/n
iqsR]mab m/,8\+ 光栅结构设置 GW.Y=S •首先,必须定义基板(基块“Base Block”)的厚度和材料。 AD6 b
'BVI ^H4 •在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈(stack)中定义。 lr
-+|>M) •堆栈可以附到基板的一侧或两侧。 _skE\7&>X |n(b>.X
i+I1h= J DOs.w •例如,选择第一个界面上的堆栈。 =#&+w[4?&. 9.6ni1a' 堆栈编辑器 B!)Tytm9u •在堆栈编辑器(Stack Editor)中,可以从目录中添加或插入界面。 w.=rea~ •VirtualLab的目录提供了几种类型的界面。 所有界面都可以用来定义光栅。 /-=h|A#Kh w`zS`+4
xBqZ:
BQ 91k-os(4] 矩形光栅界面 v,iq,p)& EKmn@S-&P •一种可能的界面是矩形光栅界面。 9*r l7 •此类界面适用于简单二元结构的配置。 bGlr>@;-r •在此示例中,由银制成的光栅位于玻璃基板上。 zq|NltK •为此,增加了一个平面界面,以便将光栅结构与基块分开。 SzUH6|=.R= •在堆栈编辑器的视图中,根据折射率(黑暗表示更高),其他颜色表示不同的材料。 j& L@L.d i3$pqNe
>V>GiSni i> {0h3Y 矩形光栅界面
CUaL •请注意:界面的顺序始终从基板表面开始计算。 JDOn`7!w •所选界面在视图中以红色突出显示。 ?rdWhF]
R~RE21kAc •此外,此处无法定义光栅前方的介质(指最后一个接界面后面的介质)。 它自动取自光栅元件前面的材料。 F$O$Y[ •可以在光路编辑器(Light Path Editor)中更改此材质。 uME_/S uO ?MvL}o\| •堆栈周期(Stack Period)允许控制整个配置的周期。 jk%H+<FU` •此周期也适用于FMM算法的周期性边界条件。 lKS 2OOYC` •如果是简单的光栅结构,建议选择“取决于界面周期”(Dependent from Period of Interface)选项,并选择适当的周期性界面索引。 uaha)W;'9 M L7 vP >U]KPL[% bj?=\u
J!@R0U. Rq|]KAN 矩形光栅界面参数 6Z@T
/"mU( •矩形光栅界面由以下参数定义 Ejyo
oO45 - 狭缝宽度(绝对或相对) :fnK`RnaQ - 光栅周期 =(v'8?-- - 调制深度 =L{-Hu/j •可以选择设置横向移位和旋转。 Mh}vr%0;) s Dsq:z
9)4_@rf% ZCNO_g 高级选项和信息 Nema>T] •在传播菜单中,有几个高级选项可用。 gy"<[N
.?c •传播方法选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 hsYv=Tw3C •可以设置总级次数或衰逝波级次数 ##OCfCW (evanescent orders)。 q&LCMnv"P •如果考虑金属光栅,这项功能非常实用。 #jPn7 •相反,在介质光栅的情况下,默认设置就足够了。 BUyKiMW 49 J.c
yb lZ)
qV!< &{ZUY3 •高级设置(Advanced Settings)选项卡可提供有关结构分解的信息。 ?R4%z2rcW •层分解(Layer Decomposition)和过渡点分解(Transition Point Decomposition)设置可用于调整结构的离散化。 默认设置适用于几乎所有光栅结构。 sR)jZpmC( •此外,有关数量的信息提供了层数和过渡点的信息。 $|AasT5w •分解预览(Decomposition Preview)按钮提供用于FMM计算的结构数据的描述。 折射率由色标表示。 nL[G@1nR ej\Sc7. SUjo%3R _SU6Bd/> 过渡点列表界面 A!R'/m'VG •另一种可用于光栅配置的界面是过渡点列表界面。 eAG)+b •此界面允许根据周期内不同位置的高度值配置结构。 D?4bp'0 3 •同样,平面界面用于将光栅材料或介质与其中一个基板分离。 ]3 QW\k~ Hk=HO|&<XB 'UC1!Z 过渡点列表参数 wGxH •过渡点列表界面由包含x位置和高度数据的列表定义。 j@{dsS:6 •上限(Upper Limit)必须设置为大于所需光栅周期一半的值,但在周期性结构的情况下自动设置。 W mx3@]< s3VD6xi7 @\W-=YKLg D/hq~- g •必须在周期化(Periodization)选项卡中设置此界面的周期。 `O0y8 •此处,可以定义x方向和y方向的周期。 QH?sx k2 •在这种情况下,可以忽略内部和外部定义区域的设置,因为接口的扩展已经被周期性边界条件截断。 ,
YlS 5gb:,+
}^^c/w_ ]kF1~kXBe 高级选项及信息 %OP|%^2 •同样,可以在高级设置选项卡页面上调整和研究分解结构的数据。 @|e
we.r 3jHg9M23[^
'~1Zr uO *eI {g 正弦光栅界面 M4% 3a j •另一种可用于配置光栅的界面是正弦光栅界面。 lr@w1* •此界面允许配置具有平滑形状的正弦函数类型的光栅。 "/ Gw`^t •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: 6{yn;D4 - 脊的材料:基板的材料 YGRb|P- - 凹槽材料:光栅前面的材料 : t/0 D]N)
k$pND,Ws N7YCg 正弦光栅界面参数 '%o^#gJ p - 正弦光栅界面也由以下参数定义: ln8es{q •光栅周期 A;o({9VH`Z •调制深度 "<^n@=g'q - 可以选择设置横向移位和旋转。 JVr8O`>T - 由于这是光栅界面(类似于矩形和锯齿借口),因此不必选择周期。 c c/nzB pgZQ>% &>QxL d# !YZKa- 高级选项和信息 *zW]IQ'A •同样,可以在高级设置选项卡中调整和研究分解结构的数据。 5u3KL
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qk(bA/+e F/3L^k] 高级选项及信息 (@;^uVJP •如果增加层数(例如,增加2倍),则离散化变得光滑。 =K}T; c q03+FLEfC %5nEyZOq 锯齿光栅界面 #)]/wqPoW •另一种可用于光栅配置的界面是锯齿光栅界面。 IM5[O}aq •此界面允许配置闪耀结构的光栅。 i
^2A:6}? •如果使用单个界面来描述光栅结构,则会自动选择材料: Wh~,?}laj - 脊的材料:基板的材料 iyXd"O - 凹槽材料:光栅前面的材料 XODp[+xEEt S4-jF D)U
w~Nat7nD nHRk2l| 锯齿光栅界面参数 xEeHQ7J •锯齿光栅界面也由以下参数定义: 5HE5$S - 光栅周期 69apTx - 调制深度 radP%W-U •此外,闪耀的方向可以是通过设定倾斜度进行调整。 8Op^6rX4 •可以选择设置横向移位和旋转。 xtKU;+# •由于这是光栅界面(类似矩形和正弦型),因此不必选择周期。 t1yOAbI 0Ub'=`]5a ]yL+lv l-S0Gn/'X 高级选项和信息 [-\U)>MY(p •同样,可以在高级设置中调整和研究分解结构的数据。 ,np|KoG|M yPs6_Qo!p 探测器位置的注释 $)BPtGMGo 关于探测器位置的注释 NJV kn~< •在VirtualLab中,探测器默认位于基板后面的空气中。
Gv}Q/v •如果光栅包含在复杂的光学装置中,则必须这样做。 y6x./1Nb}< •但是,完美的平面和平行基板可能会产生一些干涉效应,而实际情况并非如此。 " Up(Vj@ •因此,为了计算光栅效率,应将探测器设置在基板材料内(同样适用于大多数光栅评估软件)。 8eYEi •可以避免这些干涉效应的不良影响。 1i_%1Oip %Lb
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