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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-11-24
    摘要 #9CLIYJAd  
    #8@o%%F d  
    高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 @~8*  
    Lf+"Gp  
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    ^wxpinJ>  
    建模任务 0Ait7`  
    qA5 Ug  
    MZ"|Jn  
    概述 (0u(<qA\  
    ")@#B=8+3^  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 Hp5.jor(k  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 'T(@5%Db  
    p,7, tx  
    tQ(4UHqa~  
    Sjo7NR^#e  
    光线追迹仿真 yZkS   
    f[wxt n'r  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 xq<X:\O  
    •单击go! RZP7h>y6@  
    •获得了3D光线追迹结果。 D hD^w;f]  
    ()e|BFL.  
    cG,zO-H  
    ~|( eh9  
    光线追迹仿真 KvXF zx|A  
    3@\J#mR  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 }56WAP}Z 4  
    •单击go! 0t7vg#v|  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 t^~Qv  
    M< /  
    _ o.j({S  
    B}0!b7!  
    场追迹仿真 `k`P;(:  
    ZQ{-6VCjl  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 xSq{pxX  
    •单击go! u=t.1eS5  
    G_<4% HM  
    MI)v@_1d  
    n j2=}6  
    场追迹仿真(相机探测器) ?NR&3 q  
    Q)im2o@z  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 nx{MUN7  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 &O#,"u/q`  
    qHn X)  
    >:HmIW0PLe  
    :l&Yq!5  
    场追迹仿真(电磁场探测器) )+|Y;zC9  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 \,pObWm  
    /xj`'8  
    LGK@taw^  
    1!NrndJI  
    场追迹仿真(电磁场探测器) Xw3j(`w$,  
    bEln.)  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 6V*,nocL_+  
    %j.n^7i]^:  
    F^81?F i.  
     
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