主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: 4~P{H/] • 定义MMI耦合器的材料; 8jMw7ti • 定义布局设定; ZMt9'w; • 创建一个MMI耦合器; U rm&4&y • 插入输入面; 7!]$XGz[ • 运行模拟; {SY@7G] • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 K;k_MA310 \5_+6 1. 定义MMI耦合器的材料 #@w8wCj 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: 3yszfWr 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ "4<RMYQ FWq+'GkSV 图1.初始性能对话框
WUvrC 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” ~4"adOv ylUxK{ 图2.轮廓设计窗口
X#EMmB! 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 Y}&//S A
Y4_/G4C f-F+Y`P 图3.电介质材料创建窗口
ZgP=maQk 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: Q})x4 − Name : Guide e=<knKc
Q − Refractive Index (Re) : 3.3 TD'Rv Tpl − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 Q>8F&p?R /x c<& 图4.创建Guide材料
LBq~?Q.e 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: 'Ybd'|t{} − Name : Cladding (dd+wx't − Refractive Index (Re) : 3.27 d&BocJ − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 `O?Kftv* Se.\wkl#Y 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 k|k
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: |`+kZ-M* − Name : Guide_Channel twv|,kM − 2D profile definition: Guide ![h+R@_( − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 [=7=zV;}4 cKJf0S:cx- 图6.构建通道
9^6E>S{= 2. 定义布局设定 O-J;iX }
为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: "(zvI>A
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 ZJ}9g(X..g
− Width:2.8 W/!M
eTU&E
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 e/Wrm^]y
− Profile:Channel-Guide a"SH_+T{
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
>L\$
*oopdGue
2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: $\M<gW6
− Length:5300 \X.CYkgK
− Width:60 ZKy)F-yX
图8.设置晶圆尺寸
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v%v(-, _q
3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签: Q&+Jeji
− Material:Cladding pRWEBd1U
− 点击OK以激活布局窗口 .B?6
图9.晶圆材料设置
8,B?!%FP
jBZlNEw
4) 布局窗口 W!vN(1:(
图10.默认情况下布局窗口显示
M8dv
y!D
5.m&93P
5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置: x93h{Kf
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 [Jv0^"]
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示 ZByxC*Cz
− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 R=&9M4
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 URU,&gy=
图12.最终布局显示
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MDV<[${
3. 创建一个MMI耦合器 G>Fk
)
为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: @Wgd(Ezd
1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导 .5L|(B=H
2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 <A|X4;
图13 .绘制第一个线性波动
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