切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 139阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    6313
    光币
    25710
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 09-15
    摘要 /1v9U|j  
    V^&*y+  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 pm,xGo2  
    }ePl&-9T  
    <JH,B91  
    场景 TKv!wKI  
    w $6Z}M1d  
    iGu%_-S  
    n\l?+)S *  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 |[IyqWG9  
    #}FUau$  
    系统构建块
    z__?kY  
    3>-h- cpMX  
    Tk4>Jb  
    "mf$E|  
    组件求解器 =uH2+9.  
    ~cCMLK em  
    r O$pj~!|Q  
    ft6)n T/"&  
    x lS*9>Ij  
    wuA?t  
    系统构建块 z'_Fg0kR{  
    ur\6~'l4  
    nYj rEy)Q  
    o #e8 Piw  
    总结 32<D9_  
    fk5'v   
    Td|u@l4B  
    P,{Q k~iu  
    几何光学仿真 < ,*\t  
    通过光线追迹 v}6iI}r  
    *G> x07S)~  
    结果:光线追迹 QMsq4yJ)%  
    oT):#,s  
    igfQ,LWe!  
    q[a\a7U z  
    快速物理光学仿真 %S^hqC  
    通过场追迹 &sWr)>vs  
    heCM+ =#~  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 }q.D)'g_  
    LJGpa )(  
    k.ou$mIY  
    lx%c&~.DiB  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 U`ttT5;  
    I?3b}#&V9  
    T,pr&1]Lw  
    FfJp::|ddr  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 B>^6tdz  
    {Ya$Q#l  
    +Y sGH~jX  
    9j>2C  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 tb+gCs'D  
    J[ Gpd  
    ;\mX=S|a  
    mrP48#Y+l  
    总结 rUb{iU;~m  
    _-_iw&F  
    \%a0Lp{ I  
     
    分享到