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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 JZqJ&   
    cq/@ng*o  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 VuH }@  
    BM87f:d  
    ho!qXS  
    场景 V0_^==Vs  
    ^xr & E  
     ,,?XGx  
    uTy00`1  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ~b[5}_L=>  
    D8b9 T.[(  
    系统构建块     Ze?H  
    xg;F};}5$  
     m5W':vM  
    K'[kl'  
    组件求解器 >B.KI}dE  
    1TgD;qX  
    @J6V ,  
    9q2x}  
    raM{!T:  
    mw83pU6  
    系统构建块 1([?EfC  
    ~e5E%bXxC  
     /8/N  
    %)e&"mq!|  
    总结 w4RtIDW:  
    Z0M|Bv9_  
    -8S Z}J  
    3RI %OCGF  
    几何光学仿真 uzS;&-nA  
    通过光线追迹 r6nWrO>y  
     %htwq]rZd  
    结果：光线追迹 jTqE V(  
    *(sv5c!0M8  
     Y*S(uqM  
    ];QX&";Z  
    快速物理光学仿真 ; Ji3|=4u  
    通过场追迹 "_\77cqpTh  
     :6Gf@Z&+  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 mzf^`/NO  
    d 0:;IUG  
     4v`;D,dIu  
    P[H 4Yp  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ^KQZ;[B  
    }50s\H._C  
     5+/XO>P1m|  
    0 R>!jw  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6Zv-kG  
    mC'<Ov<eJ  
    |gfG\fL3V  
    =r~ExW}+  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 &E-q(3-  
    M[0NB2`Wp  
     2>xEE  
    2hb>6Z;r]K  
    总结 +y 48.5  
    QPB ^%8  
    -LlS9[r0  
     
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