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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 09-15
    摘要 s+Fi @lg,  
    V@>r*7\F  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 :tIC~GG]_)  
    +4[^!q* H  
    rg0m a  
    场景 R>DaOH2K*  
    WLF0US'  
    vS\%3A4^+5  
    kKD`rfyG \  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 JdIlWJY  
    4h@Z/G!T3  
    系统构建块
    .s#;s'>g  
    jV.g}F+1m  
    k(zsm"<q  
    2*(Z==XC7  
    组件求解器 ^w]/  
    <%xS{!'}  
    [SJ6@q  
    [ W2fd\4  
    KIR'$ 6pn~  
    .sQ=;w/ZA  
    系统构建块 xs\!$*R  
    OB[o2G<0  
    | 8qBm  
    Q{k At%  
    总结 GUF"<k  
    4w#``UY)'  
    J=pztASt  
    !61Pl/uQ  
    几何光学仿真 SQeRSz8bK4  
    通过光线追迹 nW;g28  
    D;UV&.$'v  
    结果:光线追迹 sA gKg=)  
    sXd8rj:o  
    SP|<Tny  
    mxb06u _  
    快速物理光学仿真 }I@L}f5N  
    通过场追迹 "V&+7"Q  
    9-]i.y  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 <hwy*uBrD  
     ]xguBh]  
    rP!#RzL  
    WK="J6K5  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 6a;v&5  
    "5eNLqt^q  
    q>w)"Dd  
    -hkQ2[Ew#  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {EdH$l>94  
    # O4gg  
    Rq[ M29  
    Me6+~"am/  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 rQ=,y>-*  
    c1%H4j4/  
    "B_K XL  
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    总结 E~LT b) !  
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