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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 s[#_sR`y  
    @#"6_{!j_X  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 0t%`jY~%  
    *g"X hk  
    Bdm05}c@u  
    场景 ]h'*L`  
    #6@4c5{2=4  
    L[tq@[(IJ  
    up2wkc8  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 UN|S!&C$  
    F#a'N c9  
    系统构建块
    + S@[1 N  
    gP`CQ0t  
    ~cSE 9ul  
    b1EY6'R2  
    组件求解器 w d6+,B  
    oB+Ek~{z]  
    \?vn0;R4  
    f@0Km^aUc  
    QBjvbWoIG(  
    |Q$Dj!!1P  
    系统构建块 84/#,X!=s  
    ]Xg7XY  
    Iz8gZ:rd0  
    >dnDN3x  
    总结 Q+*@!s  
    krRnE7\m  
    kV4,45r  
    J7wIA3.O  
    几何光学仿真 E.G]T#wt0  
    通过光线追迹 ,Bl_6ZaL  
    yC7lR#N8j0  
    结果:光线追迹 I "HEXsSe  
    ~7:Q+ 0,,  
    +|qw>1J(  
    6t3Zi:=I  
    快速物理光学仿真 ; jrmr`l=  
    通过场追迹 3x>Y  
    `!<#'PR  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 JvYs6u  
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    4jW <*jM  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 tNljv >vI  
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    V!QC.D<  
    ppnl bL^*  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 EPU3Jban  
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    gdS@NUM  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 p5J!j I=  
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    V^_U=Ed@M  
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    总结 0B"_St}3D  
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