切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 双11活动：领红包、购物券啦！ CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 562阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7305
    光币
    30666
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 9E`Laf  
    H\r- ;,&  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 OSu/ !Iv\  
    TzSEQ S{  
    CdZS"I  
    场景 gUa-6@  
    zG^|W8um_  
     $?Dcp^  
    L!| `IK  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 oy[>`qyz  
    nO#a|~-))  
    系统构建块     ~DJILc  
    _P}wO8  
     {JGXdp:SB  
    \&XtPQ  
    组件求解器 (&o|}"kRq  
    i]$/& /  
    ! (H RP9  
    '&LH9r  
    c3aBPig\D  
    Pt=@U:  
    系统构建块 ;{j@ia  
    5K#<VU*:  
     r"4&.&6  
    ;owU]Xk%8K  
    总结 "wi}/,)  
    9O4\DRe5c  
    ;;>G}pG  
    [wkSY>Gu  
    几何光学仿真 z(dDX%k@  
    通过光线追迹 <lN=<9  
     k*u4N  
    结果：光线追迹 f^]^IXzXw.  
    w+][L||4c  
     "2_nN]%u-  
    k*ZYT6Z?  
    快速物理光学仿真 XjFaP {  
    通过场追迹 KN< KZM  
     VJbn/5+P  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 iezY+`x4  
    H tx)MEZ  
     c~)H" n  
    .22}= z  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 70F(`;  
    &BOG&ot  
     0f;`Zj0l8  
    GhC%32F  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 k vF[d{l  
    ijeas<  
    lPA:ho/`:  
    s*tzU.E (  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0?w4  
    i*6 1i0  
     .2f0e[J  
    Ksb55cp`  
    总结 \E8CC>Jd  
    czcsXBl[  
    9Itj@ps  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表