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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 An. A1y  
    ^wIB;!W  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 .l1x~(  
    gk%nF  
    q`*.F#/4c  
    场景 * ,a F-  
    |?T=4~b  
     ?^Rp" H   
    \l GD8@,x  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 C+NN.5No  
    @xWWN  
    系统构建块     u7< +)6-  
    vB7Gx>BQd  
     *yhA8fJ  
    Cqr{Nssu  
    组件求解器 <:9 ts@B  
    wA5Iz{uQO  
    fd'kv  
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    d A)T>  
    \?n6l7*t>  
    系统构建块 [MIgQ.n  
    2I B{FO/  
     <x}wy+SG  
    ;J W ]b]  
    总结 xS|9Gk  
    8_%GH}{  
    poQ_r <I  
    spa :5]B  
    几何光学仿真 @[r[l#4yUi  
    通过光线追迹 ~J].~^[  
     2.^{4 1:  
    结果：光线追迹 =Y2 Rht  
    IWv(G Qx  
     OJe!K:  
    IW\^-LI.  
    快速物理光学仿真 ]+I9{%zB%8  
    通过场追迹 1 uU$V =  
     HyzSHI  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 H'WYnhU&  
    g (w/  
     YoKE=ln7  
    :?xH)J,imk  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 x;?8Zr  
    Jr5S8 c|"  
     ?M:>2wl  
    DdR0u0JH0  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *}]#E$  
    ZUS-4'"$  
    kP`#zwp'Ci  
    ]Za[]E8MD  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Rw'}>?k]  
    qt L]x -O  
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    总结 0`E G-Hw  
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    1J[$f>%n]  
     
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