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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 7小时前
    摘要 Xa Yx avq  
    N V^ktln  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 P>0j]?RB  
     7=6p  
    :R"k=l1  
    场景 cSnm\f  
    ouPwhB,bg  
     Ddghw(9*H  
    iePpJ>(  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 Wu2#r\  
    Q{Jz;6"  
    系统构建块     ACU0  
    B@63=a*kG  
     {o*ziZh  
    L>).o%(R  
    组件求解器 tv,^ Q}  
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     bXQ(6P  
    lmz{,O  
    系统构建块 q}M^i7IE  
    }V ;PaX  
     D@"q2 !  
    K}1>n2P  
    总结 wpb6F '  
     /d0LD  
    )tz8(S  
    +0^N#0)  
    几何光学仿真 RCND|X  
    通过光线追迹 7: J6 F  
     F'C]OMBE  
    结果：光线追迹 c_kxjzA#  
    4_F<jx,G  
     ?:lOn(0&  
    (=)+as"u9*  
    快速物理光学仿真 `Rm2G  
    通过场追迹 WLDt5R  
     '355Pce/  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 l9qq;hhGP,  
    )m\%L`+  
     $_S^Aw?  
    $kZ,uvKN  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 -+'{C =  
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     aS'G&(_  
    vJtQ&,zG  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 WN?!(r<qA_  
    %Kw5 b ;  
    Gvtd )9^<  
    6:330"9  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 6$%]p1"!K  
    ZT"?W $  
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    总结 nO\|43W  
    q.K >v'  
    oT\B-lx  
     
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