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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 09-15
    摘要 s%#u)nw19  
    U4a8z<l$  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ?st}rJ_  
    =.J>'9Q  
    Grw[h  
    场景 V[^AV"V  
    1 h162  
    \Rt>U|%  
    # mM9^LJ   
    在VirtualLab Fusion中构建系统 D}{]5R  
    dqU)(T=C  
    系统构建块
    U/HF6=Wot  
    B}y#AVSA  
    ]9<H[5>$R  
    m-[xrVV  
    组件求解器 tT A  
    ^eV  K.  
    \/wk!mWV@  
    M_?B*QZJI  
    f/kYm\Zc  
    &RS)U72  
    系统构建块 <|3F('Q"  
    0|hOoO]?q&  
    $Zi {1w  
    lS2 `#l>  
    总结 Efd@\m:~>  
    FAGi`X<L  
    8;UkZN"hy5  
    Jn&u u  
    几何光学仿真 frQ=BV5%6  
    通过光线追迹 |e+r~).4B  
    {poTA+i  
    结果:光线追迹 ! }eq~3  
    vl`St$$|  
    'w;J) _Yc2  
     j)mS3#cH  
    快速物理光学仿真 'oBv(H  
    通过场追迹 A6;[r #C  
    wqE2n  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 vXSpn71Jb  
    +miL naO~L  
    vMXn#eR  
    Tz(Dhb,  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ZE/Aj/7Qy  
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    TYxi &;w  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 t/]za4w/  
    nrTCq~LO(  
    -zH-9N*c  
    ~4S6c=:  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 5B{Eg?  
    Nc(A5*  
    AUU(fy#<  
    T< <N U"n  
    总结 &9n=!S'Md  
    n>lQ:l~  
    @<1T&X{Z!  
     
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