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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 9小时前
    摘要 X r)d;@yi  
    57MoO  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 W@S9}+wl*  
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    blPC"3}3Vd  
    场景 ud#8`/!mq  
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    Fh/C{cX9g  
    B+B v(p  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 :YI>AaYWDO  
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    系统构建块
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    组件求解器 e.kt]l  
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    Arv8P P^'  
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    系统构建块 #3$|PM7,_  
    1&As:kv5I  
    >k jJq]A2  
    Dm^kuTIG  
    总结 t8+93,*B  
    UmuFzw^  
    ,5?MRqCM  
    `j$d(+Gv  
    几何光学仿真 syfR5wc  
    通过光线追迹 ~S6N'$^  
    PWU#`>4  
    结果:光线追迹 H}~^,B2;  
    qprOxP r  
    gA|j\T{c  
    Og npzN  
    快速物理光学仿真 ZM.g +-9  
    通过场追迹 K\ ]r  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 2fk   
    BkeP?X  
    jdp:G  
    G<eJ0S  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 A%O#S<sa  
    iy"K g]  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 k}.nH"AQ  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 F)w83[5_d  
    hH/ O2  
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    总结 QAwj]_  
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