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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 cu9Qwm  
     J m{  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 cNK)5- U  
    EMvHFu   
    W[''Cc.  
    场景 @r7:NU}  
    epD?K  
     wTq{sW&  
    8F5|EpB9M  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 QV|>4^1D  
    db72W x0>  
    系统构建块     5p"BD'^:  
    uXZg1 F)  
     v({N:ya  
    #(;<-7M2  
    组件求解器 dbdM"z 4  
    ^z;JVrW  
    "E*e2W  
    fL*T3[d  
    f>9s!Hpu_  
    lTRl"`@S  
    系统构建块 u_O# @eOc  
    a>mMvc"  
     }%!tT\8  
    EM j;2!  
    总结 `{K_/Cit  
    _ Y2 U7W  
    D/(CU#i"  
    k;y w#Af8  
    几何光学仿真 pf"<!O[  
    通过光线追迹 Gc tsp2ndW  
     4\otq%Y  
    结果：光线追迹 h:bru:ef  
    ,yMU@Vg  
     AI ijCL  
    N5U)*U'-u  
    快速物理光学仿真 ;T+pu>)  
    通过场追迹 `RRE(SiKU  
     4$6T+i2E   
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 B~o-l*  
    Cr ? 4Ngw  
     h11.'Eej`  
    d' >>E  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 &K+0xnUH  
    _~'+Qe_o$5  
     <W)u{KS#TY  
    ,zTb<g  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 KDP H6  
    Ddju~510  
    "`Ge~N[$A  
    5II(mSg8  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 `YBkF  
    4-GXmC  
     vV?rpe|%  
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    总结 ow'Vz Ay-  
    &[mZD,  
    ` Nh"  
     
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