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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 ?C35   
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 GwBQ p Njy  
    MVZ>:G9:  
    |U $-d^ZJ  
    场景 K5&C}Ey1  
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    lvi:I+VgA  
    .Er/t"Qs;  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ?` i/  
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    系统构建块
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    组件求解器 KTt$Pt/.  
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    [t{ #@X  
    系统构建块 _9|@nUD  
    XWpnZFjE  
    ~79Qg{+]N  
    ue<<Y"NR  
    总结 +z0}{,HX  
    9PK-r;2  
    9X9zIh]JV  
    3z92Gy5cr  
    几何光学仿真 5KE%@,k k  
    通过光线追迹 =@=R)C4f*  
    MmH_gR  
    结果:光线追迹 L^1q/4${  
    NP'Ke:  
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    快速物理光学仿真 w*%$ lhp!  
    通过场追迹 N('DIi*or  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 iCRw}[[  
    R+VLoz*J6  
    8:?Q(M7  
    vr;Br-8  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 #r)1<}_e#  
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    "4uUI_E9F;  
    U4l*;od  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =z1o}ga=EA  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 vq:OH H  
    L Yg$M@  
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    总结 ^iRwwN=d  
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