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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 09-15
    摘要 KPhqD5, (  
    2vC=.1k  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。  df'g},_  
    %r"GL  
    aBnbu vp  
    场景 [1U_c*;i  
    /WfxI>v  
    _;{-w%Vf  
    86g+c  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 K;PpS*!  
    Q/9b'^UJ  
    系统构建块
    a5M>1&j/eC  
    Q:\hh=^  
    4o3GS8  
    }t'^Au`X  
    组件求解器 M}Mzm2d#`  
    M\f0 =`g  
    rzHa&:Y  
    4/?Zp4g  
    s|'L0` <B  
    s_LSs yqo  
    系统构建块 ise}> A!t  
    z<>_*Lfj  
    t^5_;sJQ  
    }nl)*l  
    总结 W\7*T1TDj  
    M'iKk[Hjfx  
    l0{DnQA>I  
    Tt|6N*b'  
    几何光学仿真 N}G(pq}  
    通过光线追迹 VHCzlg  
    <*(R+to^d  
    结果:光线追迹 w)n]}k  
    P;&p[[7  
    >U Lp!  
    x["  
    快速物理光学仿真 )g _zPt  
    通过场追迹 m=B0!Z1xx  
    V&H8-,7z  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Y;Gm,  
    ~*[4DQ[\  
    `F8;{`a  
    S45>f(!  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0pa^O$?p  
    VYo;[ue([  
    YWrY{6M  
    g"S+V#R  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ZiYzsn  
    V JL;+  
    GuvF   
    79g>7<vp  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 T l(uqY?9  
    v^fOT5\  
    L"%eQHEC&  
    #/<Y!qV&  
    总结 4CT9-2UC  
    Eo&qc 17)`  
    4ZpF1Zc4B  
     
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