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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 DavG=kvd  
    Nm=W?i  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 mWM!6"  
    xTL"%'|  
    z<mU$<  
    场景 AHR%3W  
    ",T-'>h$2R  
    4<&`\<jZ  
    [e'Ts#($A  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 )/9/p17:xu  
    ~(`iRxK  
    系统构建块
    #X"eg  
    p`JD8c  
    VscEdtkd  
    lH^[b[  
    组件求解器 qyuU  
    dLm~]V3  
    6F3#Rxh  
    ZOG6  
    dg1h<]T"9  
    HLU'1As65  
    系统构建块 \6xVIQ& 0  
    T!)v9L  
    a ^b_&}y  
    pRj1b^F5y  
    总结 8:,l+[\  
    v >71 ?te  
    o84!$2P+w  
    tq^H)  
    几何光学仿真 ?8n`4yO0  
    通过光线追迹 B@l/'$G  
    ,!3G  
    结果:光线追迹 p/xxoU  
    /AP@Bhm  
    TCFx+*fBd  
    AjK'P<:/  
    快速物理光学仿真  `' 5(4j  
    通过场追迹 y!Q&;xO+!  
    ,\f!e#d  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 n8[ sl]L  
    #|34(ML  
    W@1Nit-R  
    wEo/H  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 =LS?:Mhm  
    1 {dhGX  
    &gZ5dTj>  
    &V[m{.  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 .Kr?vD^nG  
    RJ1 Q.o  
    XFPWW,  
    |?SK.1pW  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 m0W5Ogk  
    SqTO~zGC  
    w3c[t~R8  
    INsc!xOQ  
    总结 E/9 U0  
    [: X  
    =usx' #rb  
     
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