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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 '5e,@t%y  
    Nep4 J;  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 >f(?Mxh2  
    2KlQ[z4Ir  
    U2q6^z4l  
    场景 RkF#NCnL;  
    o ).deP s-  
     3JCo!n0   
    Q7 BbST+  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 h051Ol\v*  
    1Kg0y71"  
    系统构建块     !"rPSGK*  
    #B `?}a=  
     =!q% 1mP  
    B,%Vy!o  
    组件求解器 "-J 5!y*,Y  
    RB5SK#z  
    sV\_DP/l  
    oBzl=N3<  
    "y1Iu   
    j4.wd RK  
    系统构建块 wP!X)p\  
    oQ!M+sRmF  
     hAGHb+:  
    __=H"UhWv  
    总结 Ei;tfB  
    ([>ecS@eO  
    )!T~l(g  
    O'y8q[2KE  
    几何光学仿真 +v Bi7#&  
    通过光线追迹 5/meH[R\M  
     ]%Q!%uTh  
    结果：光线追迹 vQAFgG  
    _plK(g-1J%  
     sX>u.  
    odRiCiMH  
    快速物理光学仿真 ^D yw(>9  
    通过场追迹 s|[>@~gXk  
     v+c>iI  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦  @/2Kfr  
    9T,/R1N8  
     Dg&84,bv^  
    LQ+/|_(.  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 `Q] N]mK  
    f :c'j`  
     F:{*4b  
    k+<9 45kC  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ;b~ S/   
    g: i5%1  
    >lI7]hbIs  
    U|^xr~q!f-  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ui8 Q2{z  
    v2T2/y%  
     mH*ldf;J;=  
    FpoH m%+  
    总结 96=<phcwN[  
    *$f=`sj  
    z>x@o}#u\|  
     
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