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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 ` v@m-j6  
    *6DB0X_-}  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 `, Tz Q  
    P! #[mio  
    BeoDKdAwY  
    场景 l&Q`wR5e  
    *.d)OOpLo  
     l3I:Q^x@  
    =w 2**$  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 SmSH2m-  
    S2VA{9:m  
    系统构建块     k5.Lna  
    EE'io5\et  
     AogVF  
    .MoU1n{Yc  
    组件求解器 XBu"-(  
    wHMX=N1/  
    Xg!{K3OS  
    T&u5ki4NE  
    uH- l%17  
    "Nbq#w\  
    系统构建块 fN^8{w/O  
    70tH:Z)"  
     !/i{l  
    h-<81"}j1  
    总结 G[I"8iS,  
    (b-MMr  
    %oa-WmWm  
    Mc_YPR:C  
    几何光学仿真 k],Q9  
    通过光线追迹 8ek@: Mw  
     _ y8Wn}19f  
    结果：光线追迹 c"V"zg22  
    BdblLUGK#  
     O$j7i:G'5  
    RF4vtQC=  
    快速物理光学仿真 .P%bkD6M  
    通过场追迹 x vl#w  
     l=)xo@6  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =O_4|7Zl  
    }1i`6`y1  
     e+ BQww  
    {|_M # w~&  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 _w+:Dv~*a  
    &LZn FR  
     Wk4s reB  
    f:|1_j  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 tla 5B_  
    Ed,~1GanY  
    6@ IXqKz  
    K;Uvb(m{&  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 >xYpNtEs  
    FvXZ<(A{  
     l2rd9 -T  
    JNYFD8J~  
    总结 g:D>.lKd  
    #+HJA42  
    BsqP?/  
     
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