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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 cYW F)WAog  
    #2|sS|0<  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 <"aPoGda  
    sg{>-KHM  
    ;\( wJ{u?Y  
    场景 t~gnai  
    no^I![_M  
    (~,Q-w"  
    'N0d==aI  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ;w[|IRa  
    rQ. j$U  
    系统构建块
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    m`E8gVC  
    ;%hlh)k$  
    组件求解器 ad }^Dj/  
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    f`P%aX'cBQ  
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    +*~?JT  
    8BC}D+q  
    系统构建块 |_ E)2b:h  
    \*1pFX#  
    -0Y8/6](  
    tb^3-ZUb  
    总结 PtwE[YDu  
    Z3T:R"l;  
    d|w% F=  
    GS4!c8>  
    几何光学仿真 l^WFMeMD3a  
    通过光线追迹 UvxJ _  
    ES<"YF  
    结果:光线追迹 2y v'DS  
    HmAA?J}  
    dGTAZ(1W  
    n"-cX)  
    快速物理光学仿真 E;9SsA  
    通过场追迹 SPn0D9 b]  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \{P(s:  
    pkM_ @K  
    sGc4^Z%l?  
    ;HgV(d#X  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 r[JgCj+$&  
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    TCv}N0  
     5!NK  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 DU|0#z=*t5  
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    M~zdcVTbH  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *3s4JK  
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    总结 w f,7  
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