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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 qD{1X25O  
    0G+Q^]0  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 E`.xu>Yyj  
    D5,]E`jwu  
    Ca|egQv  
    场景 riDb !oC  
    & Q3Fgj  
     5dePpFD5  
    Nap[=[rv  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 sp,-JZD  
    r[S(VPo[()  
    系统构建块     Vh^y6U<  
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     e$Ksn_wEq  
    P.y +jyu  
    组件求解器 ZwkUd-=0i  
    ib=)N)l  
    % T({;/  
    XwY,xg&o  
    G-d7}Uz ?  
    'z ?Hv  
    系统构建块 wXIRn?z  
    $G".PWc  
     eFG/!b<17  
    {DRk{>K,  
    总结 gJQ#j~'  
    6KMO*v  
    o-\h;aQJ  
    WC#6(H5t$  
    几何光学仿真 #EH=tJgO|J  
    通过光线追迹 YO$Ig:a#  
     o{PG& }K  
    结果：光线追迹 i#'K7XM2  
    [d`E9&Hv3  
     I L*B@E8  
    csy6_q(  
    快速物理光学仿真 731Lz*IFg  
    通过场追迹 ^Hx}.?1  
     (!* l+}  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 M+ +Dk7B  
    t#^Cem<  
     P~j#8cH7  
    bf_ > ?F^  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 LCivZ0?|X  
    # EvRm  
     EpS/"adI-!  
    0>28o.  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ^B<-.(F  
    &qx/ZT  
    |{#St-!-7  
    %Psg53N  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 C m:AU;  
    ?w:\0j5 ~  
     zDvV%+RW)  
    _}F& ^  
    总结 k8s)PN  
    evyjHcCx  
    nt2b}u>*  
     
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