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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 09-15
    摘要 Ef\&3TcQ  
    @TvDxY1)6Z  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 f^|r*@o  
    CfEACH4_  
    a/TeBx#yG  
    场景 ^*'fDP*  
    cP^c}e*;NS  
    W *~[KdgC  
    ]/[$3rPwZ  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 }9~U5UXWU  
    Kr%w"$<  
    系统构建块
    nO `R++  
    qZYh^\  
    =^mBj?(V7  
    aSt:G*a"  
    组件求解器 o}e]W,  
    n+D93d9LP  
    :vJ1Fo!  
    ZZrv l4h  
    Q?V'3ZZF!  
    (y5 ]]l  
    系统构建块 !SdP<{[  
    E_-g<Cw  
    &Ivf!Bgm{Z  
    *:"p*qV*  
    总结 ,m[#<}xXA  
    JQDS3v=1$  
    \{. c0  
    @+yjt'B  
    几何光学仿真 `%_(_%K  
    通过光线追迹 _18Aek   
    md;jj^8zj  
    结果:光线追迹 8+Abw)]s  
    l,ic-Y1  
     L0>7v  
    -cgMf\YF  
    快速物理光学仿真 ( "wmc"qH  
    通过场追迹 C&f{LpB`  
    K>_~|ZN1C8  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Le2rc *T  
    FJ2~SKWT  
    Zp+orc7  
    ZVDi;   
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Ww =ksggpB  
    VJS1{n=;k  
    IgEVz^W?h  
    'o|=_0-7W  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 o3Z<tI8-V  
    WO=P~F<  
    0}9  
    ]F sr k  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 KJW^pAj$B  
    ^zKP5nzL  
    P\&n0C~  
    eA-$TSWh  
    总结 8Ud.}< Zi  
     t: 03  
    mV.26D<c  
     
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