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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 09-15
    摘要 J6Q}a7I#  
    dECH/vJ^  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 E[RLBO[*n  
    H\Jpw  
    p-t*?p C  
    场景 z.7'yJIP#  
    `i)&nW)R  
    (\6R"2  
    JrdH6Zg  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 Q5s?/r  
    YQ+Kl[ec  
    系统构建块
    KVrK:W--p  
    ]'/ZSy,  
    %g>{m2o  
    nBVknyMFNF  
    组件求解器 _Vq7Gxy$R  
    ohA@Zm8O  
    MXxE)"G*a  
    -)Y?1w  
    F^]?'`7md  
    Q b|.;_  
    系统构建块 mJ%r2$/*  
    RO"*&o'K'  
    nd] AvVS  
    Y{8L ~U:  
    总结 {:3XP<hqN  
    2.K"+%  
    Qp?n0WXZ  
    'd"\h#  
    几何光学仿真 n>dM OQb  
    通过光线追迹 UI4Xv  
    995^[c1o6  
    结果:光线追迹 _5nQe !  
    A_t<SG5  
    +"] 'h~W  
    3o'SY@'W  
    快速物理光学仿真 8bX\^&N  
    通过场追迹 Ccocv>=Q&J  
    Te{L@sj  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 bz~-uHC  
    QsmG(1=  
    i#jCf3%+ h  
    y^C; ?B<  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 b'N"?W^YQ  
    , "zS  pN  
    N[}XLhbt  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 VmTk4?V4  
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    fxLhVJ"b  
    K@{jY\AZNx  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 iR#jBqXD  
    zYOPE 6E  
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    总结 0EXAdRR  
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