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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 09-15
    摘要 x,cvAbwS  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 D^V)$ME  
    S("dU`T?  
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    场景 &['x+vL9  
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    在VirtualLab Fusion中构建系统 [~RO9=;L  
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    组件求解器 =J]EVD   
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    系统构建块 x Gbq,~_r  
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    /988K-5k  
    MEJX5qG6m  
    总结 \%bJXTK&W  
    Y*p<\{,oC  
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    V/#J>-os}W  
    几何光学仿真 <|?)^;R5!  
    通过光线追迹 aaw[ia_EL  
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    结果:光线追迹 TXXG0 G  
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    通过场追迹 N-&ZaK  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -y|']I^ &  
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    T0"nzukd  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 v_pe=LC{-e  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 <uJ {>~  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 S;gy:n!t  
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    总结 rtQ{  
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