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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 _nRshTt`V&  
    qC 6Q5F  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 C$(t`G  
    !t_,x=  
    #!hpe^t  
    场景 _ssHRbE  
    92VAQU6  
    QyN~Crwo  
    ow$#kQ&R O  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 1L9^N  
    vj_oMmjKw  
    系统构建块
    BF_k~  
    /f6]XP\'`+  
    We4 FR4`  
    \hq8/6=4s  
    组件求解器 ag+ML1#)  
    1a)_Lko  
    Xt7'clr  
    , m\0IgZdz  
    L;f=\q"g  
    Q72wg~%w  
    系统构建块 ^y3\e  
    pIrAGA;  
    P! 3$RO  
    KXM-GIRUG  
    总结 FQ87[| S  
    fwnpmuJ  
    UMX+h])#N  
    =L=#PJAPj  
    几何光学仿真 Z8#I  
    通过光线追迹 7L\GI`y  
    #0P<#S^7  
    结果:光线追迹 QP;b\1 1m  
    njX:[_&  
    \=_8G:1  
    h1kPsgzR  
    快速物理光学仿真 C>u 3n^  
    通过场追迹 'wZy: c  
    BJq}1mn*  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 0 iE).Za0g  
    lcP@5ZW  
    F*w|/-e  
    _Pz3QsV9  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 I[`2MKh  
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    T7T!v  
    FKx9$B  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 r zmk-V  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ^(\Gonf<  
    &Kv evPF  
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    总结 d-<y'GYw  
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