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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 i37a}.;  
    BqEubP(si  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 W|-N>,G  
    X^_+%U  
    Bg+]_:<U  
    场景 6t mNfI34  
    '__3[D  
     B 1ZHV^  
    divZJc  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 f{ 4G  
    PHiX:0zT  
    系统构建块     3NxaOO`  
    E[Ws} n.  
     n XeK,C  
    tU2to V  
    组件求解器 6q uWO2x  
    8,H5G`  
    3_eml\CY  
    A7,$y!D  
    ZEyGqCf3  
    V8U`%/`N  
    系统构建块 /%q9hI   
    !wb~A0m  
     ^(m6g&$(  
    1q233QSW)  
    总结 ?VN]0{JSp  
    N5an9r&z(1  
    .lF\bA|  
    ,ZP3F+XKb  
    几何光学仿真 GqD!W8+  
    通过光线追迹 5iI3u 7Mn1  
     {LJ6't 8y:  
    结果：光线追迹 _kY[8e5  
    =&b$W/l)0  
     z9kX`M+  
    0|>  
    快速物理光学仿真 Dx# @D#  
    通过场追迹 .5CELtR  
     M^JZ]W(  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6ewOZ,"j"4  
    ZM^;%(  
     ZO0]+Ko  
    &MQt2aL  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 &eS70hq  
    bq&S?! =s  
     DUliU8B}\  
    pr,1Wp0l  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 |{LaZXU&  
    &?Z)V-1H  
    R6$F<;nw  
     aC }1]7  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 DfzUGX  
    {2clOUi  
     `FB?cPR  
    MH8%-UV  
    总结 x)wt.T?eL  
    )"Br,uIv:/  
    iE gM ~  
     
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