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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 ur)9x^y  
    f(/lLgI(  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 \UPjf]&  
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    ((H^2KJn  
    场景 zZL6z4g  
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    [%q@]\U$s  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 |:nn>E}ZA/  
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    系统构建块     "|EM;o  
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    KI)M JG:t  
    组件求解器 C[ NS kr  
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    系统构建块 e%svrJ2   
    c/D+|X*  
     ]^yFaTfS  
    l{5IUuUi  
    总结 &Y!-%{e  
    Ur9?Td'*>  
    F^WP<0C  
    &-;4.op  
    几何光学仿真 PRx8I .  
    通过光线追迹 K18}W*$ d  
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    结果：光线追迹 Z_$%.  
    "H7dft/  
     Z/W:97M  
    HHA<IZ#;,  
    快速物理光学仿真 o)h_H;  
    通过场追迹 C uFSeRe  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {:Orn%Q  
    &q3"g*q  
     o2nv+fy W  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 r /YMLQ  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 SzAJ2:qhl  
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    Hkk/xNP  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 u8'Zl8 g  
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    总结 p#&h=,W}  
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