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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 <,Pl31g^  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 1:Ff#Eq,s  
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    场景 ' 9%iHx-<  
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    R#i`H(N  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 0dQ\Y]b  
    QyY<Zi;6  
    系统构建块
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    c$lZ\r"  
    unNN&m#@  
    8)2M%R\THn  
    组件求解器 z`eMb  
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    GHo mk##0E  
    系统构建块 =p7id5"  
    ef!f4u\  
    aK]AhOG   
    wCV~9JTJ!  
    总结 |lk:(~DM  
    pe>?m^gz[  
    d(:I~m  
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    几何光学仿真 -%Ce  
    通过光线追迹 eKLE^`2*@  
    gX$gUB) x  
    结果:光线追迹 aL&9.L|1 g  
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    P RNq8nmxC  
    快速物理光学仿真 sl(go^  
    通过场追迹 K r<UPr  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 g>#}(u!PH  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Pp_? z0M  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 +\u\BJ!LAJ  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 eAqpP>9n  
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    总结 lDF7~N9J_  
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