切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 457阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7032
    光币
    29305
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-10
    摘要 o ohgZ&k2]  
     VYj hU?I  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 `Y `Ujr\6  
    _W]qV2j  
     6jFc'  
     6?n AO  
    1. 案例 zg,?aAm  
    1wpT"5B  
     cOa.]Kk  
      Ht,_<zP;  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 mZ sftby}  
     ]MJyBz+k  
    1. 系统构建模块 dD@k{5  
    47s<xQy  
     1ipfv-hb6  
    9dl\`zlA*  
    2. 组件连接器 Vrl)[st!;I  
    i8A{DMc,U  
    G v(bD6Rz  
          t_1a.Jv  
    几何光学仿真 r jfcZ@  
     FWqnlK#  
    以光线追迹 &!uw;|%  
     ]O2ku^yM  
    1. 结果：光线追迹 .RocENO0  
    S\2QZ[u  
    sr%tEKba)  
          p#HbN#^Hy  
    快速物理光学仿真 "5*n(S{ks  
     Nx>WOb98  
    以场追迹 >}{'{ Z &  
     FT'_{e!M  
    1. NA=1.4时的光栅成像 `C 'WSr  
    SiJ0r @  
     c(jF^ 0~  
    *gRg--PY%  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 *oLAO/)n  
       cn1CM'Ru  
    kgfOH.P  
    csZIBi  
    3. NA=0.5时的光栅成像 #|'&%n|Z  
       [wB-e~   
    Wlm%W>%  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表