-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-12-12
- 在线时间1894小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
)"i>R
~* 内容简介 O_s9 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 L8?Z!0D/h 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 u
#=kb5}{ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~'Qpf 8) kERaY9L\ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 [6RV'7`Abj 目录 +lDGr/ Preface 1 !7,K9/" 内容简介 2 8Jib|#! 目录 i )z*$`?)k 1 引言 1 X"qbB4(I 2 光学薄膜基础 2 S8W_$=4 2.1 一般规则 2 ]'
"^M 2.2 正交入射规则 3 &]"_pc/>m 2.3 斜入射规则 6 qu#@F\gX 2.4 精确计算 7 S#0|#Z5qD 2.5 相干性 8 ^RFmRn 2.6 参考文献 10 (X`t"*y" 3 Essential Macleod的快速预览 10
$V {- @= 4 Essential Macleod的特点 32 Ph!KL\ 4.1 容量和局限性 33 ru6H nLhL 4.2 程序在哪里? 33 NkjQyMF 4.3 数据文件 35 |V~(mS747: 4.4 设计规则 35 Ygkd~g 4.5 材料数据库和资料库 37 x1hs19s 4.5.1材料损失 38 [}xIg8 4.5.1材料数据库和导入材料 39 9B6_eFb 4.5.2 材料库 41 ).O2_<&?F 4.5.3导出材料数据 43 |"tV["a 4.6 常用单位 43 te)g',#lT 4.7 插值和外推法 46 ]TTJr C: 4.8 材料数据的平滑 50 !i"9f_ 4.9 更多光学常数模型 54 8L9S^ ' 4.10 文档的一般编辑规则 55 sVm'9k 4.11 撤销和重做 56 I!0 $%
]F 4.12 设计文档 57 r^o}Y 4.10.1 公式 58 H@&"M% 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 x+)hL
D[
n 4.10.3 沉积密度 59 in;+d~? 4.10.4 平行和楔形介质 60 pQgOT0f 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 J\,e/{,X 4.10.4 性能 61 n4d(` 4.10.5 保存设计和性能 64 ,9l!fT?iH 4.10.6 默认设计 64 :+Je989\[C 4.11 图表 64 )>A%FL9 4.11.1 合并曲线图 67 px(1Ppb9 4.11.2 自适应绘制 68 @1qUC"Mg 4.11.3 动态绘图 68 $gD(MKR)~ 4.11.4 3D绘图 69 Dil4ut-$ 4.12 导入和导出 73 k^%TJ.y@ 4.12.1 剪贴板 73 $lG--s 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 &MGgO\|6 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 $,@ rKRY 4.13 背景 77 DkMC!Q\ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 V:"\(Y 4.15 生成Rugate 84 2Z1(J% 7 4.16 参考文献 91 \?mU$,voI 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 7QL) }b.H 5.1 Jobs 92 []fj~hj 5.2 创建一个新Job(工作) 93 XuAc3~HAd 5.3 输入材料 94 W,oV$ s^ 5.4 设计数据文件夹 95 1p5q}">z 5.5 默认设计 95 eEds-&_ 6 细化和合成 97 {~p %\ 6.1 优化介绍 97 b8-^wJH! 6.2 细化 (Refinement) 98 vR.6^q 6.3 合成 (Synthesis) 100 8w@jUGsc 6.4 目标和评价函数 101 B(vz$QE,$r 6.4.1 目标输入 102 gdn,nL`dP 6.4.2 目标 103 f*H}eu3/j 6.4.3 特殊的评价函数 104 YwTtI ID% 6.5 层锁定和连接 104 _@3O` 6.6 细化技术 104 JC?V].) y5 6.6.1 单纯形 105 6 VJj(9% 6.6.1.1 单纯形参数 106 Q^5 t]HKn 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 D
`3yv
R 6.6.2.1 Optimac参数 108 oTa+E'q 6.6.3 模拟退火算法 109 `];[T= 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ha'm`LiX
6.6.4 共轭梯度 111 XXdMp poR 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 hdDI%3vk3 6.6.5 拟牛顿法 112 X/D9%[{& 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 JG+o~tQC 6.6.6 针合成 113 [8g\pPQ 6.6.6.1 针合成参数 114
rlh6\Fa 6.6.7 差分进化 114 (HgdmN% 6.6.8非局部细化 115 sN/Xofh 6.6.8.1非局部细化参数 115 8i
'jkyInT 6.7 我应该使用哪种技术? 116 3mn-dKe(( 6.7.1 细化 116 /|^^v DL 6.7.2 合成 117 j{+I~|ZB, 6.8 参考文献 117 =:}DD0o* 7 导纳图及其他工具 118 \}&w/.T 7.1 简介 118 F,$$N> 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 8pKPbi;(2 7.2.1 四分之一波长规则 119 vb2O4%7tw 7.2.2 导纳图 120 y,eoTmaI 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 e/~<\ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 r,@|Snv) 7.5 斜入射导纳图 141 g(/O)G. 7.6 对称周期 141 =7Gi4X% 7.7 参考文献 142 :EAfD(D{) 8 典型的镀膜实例 143 j[
YTg] 8.1 单层抗反射薄膜 145 5 `mVe0uI 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 A)0m~+?{J 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 +K4v"7C
V 8.4 W-膜层 148 q:eAL'OkM 8.5 V-膜层 149 j>=".^J 8.6 V-膜层高折射基底 150 C3Z(k} 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 !: [`
V!{ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 : .eS| 8.9 四层抗反射薄膜 153 D#(Pg 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 q "vT]=Y}: 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 #!<s& f|O 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Gs?sO?j 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 [_GR'x'0x 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 6iS+3+ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 x?$Y<=vT 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 NWcF9z%@ 8.17 1/4波长堆栈 162 %[;KO&Ga |