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'Ev[G6vo 内容简介 PCwc= Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 q0q-Coh> 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 +UWv }| 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 z#Qe$`4& xyo~p,(~t 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 p8XvfM 目录 l1kHFeq Preface 1 [^GBg>k 内容简介 2 v5@4|u3ds 目录 i NL:dyV} 1 引言 1 ,~,q0PA7J 2 光学薄膜基础 2 ;07$ G+[' 2.1 一般规则 2 b5MU$}: 2.2 正交入射规则 3 (gYW iz 2.3 斜入射规则 6 xtCMK1#
x 2.4 精确计算 7 <o9i;[+H- 2.5 相干性 8 _"x%s 2.6 参考文献 10 X*MK(aV3 3 Essential Macleod的快速预览 10 J0vQqTaT 4 Essential Macleod的特点 32 /pkN=OBR 4.1 容量和局限性 33 s[a\m, 4.2 程序在哪里? 33 Ge({sy>X 4.3 数据文件 35 iz;5: 4.4 设计规则 35 4pMp@b 4.5 材料数据库和资料库 37 0'f\>4B 4.5.1材料损失 38 ysi=}+F. 4.5.1材料数据库和导入材料 39 s]e`q4ip 4.5.2 材料库 41 tq,^!RSbZ 4.5.3导出材料数据 43 NRG06M 4.6 常用单位 43 g?|Z/eVJ 4.7 插值和外推法 46 SFh<>J^ 0a 4.8 材料数据的平滑 50 mW {uChHP 4.9 更多光学常数模型 54 @"h4S*U 4.10 文档的一般编辑规则 55 O13]H"O_ 4.11 撤销和重做 56 lO|LvJyx 4.12 设计文档 57 "6IZf>N@# 4.10.1 公式 58 _\yR/W~ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 L<oQKe7Q: 4.10.3 沉积密度 59 m+8:_0x " 4.10.4 平行和楔形介质 60 [;aM8N
4.10.5 渐变折射率和散射层 60 )H]L/n 4.10.4 性能 61 s>G]U)d<' 4.10.5 保存设计和性能 64 ";`jS&"= 4.10.6 默认设计 64 1!V[fPJ 4.11 图表 64 8mmnnf{P 4.11.1 合并曲线图 67 j;48Yya' 4.11.2 自适应绘制 68 &b^_~hB:q 4.11.3 动态绘图 68 u0<yGsEGD 4.11.4 3D绘图 69 huA?*fat 4.12 导入和导出 73 &/Gn!J;1 4.12.1 剪贴板 73 qLX<[UL 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 jP/Vqe%%8 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 XPf{R619 4.13 背景 77 2o9B >f&g 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 %^E7Iqc 4.15 生成Rugate 84 @1xVWSF 4.16 参考文献 91 XXX y*/P 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 l]D$QT3 5.1 Jobs 92 NAtDt= 5.2 创建一个新Job(工作) 93 At[Q0'jkc 5.3 输入材料 94 Q|+ a 5.4 设计数据文件夹 95 j7:r8? G 5.5 默认设计 95 9[X'9*, 6 细化和合成 97 z.SKawm6T 6.1 优化介绍 97 6q'Q?Uw^ 6.2 细化 (Refinement) 98 l="X|t 6.3 合成 (Synthesis) 100 Xu~N97\G 6.4 目标和评价函数 101 o:cTc:l) 6.4.1 目标输入 102 %E#Ubm! 6.4.2 目标 103 -3?
<Ja 6.4.3 特殊的评价函数 104 &qPezyt 6.5 层锁定和连接 104 un!v1g9O 6.6 细化技术 104 JW><&hY$" 6.6.1 单纯形 105 fnr8{sr.2Z 6.6.1.1 单纯形参数 106 Iv3yDL; 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 yU/?4/G! 6.6.2.1 Optimac参数 108 x
~)~v?>T 6.6.3 模拟退火算法 109 12L`Gi 6.6.3.1 模拟退火参数 109 |uz<) 6.6.4 共轭梯度 111 toDi70o 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 gfN=0Xj4 6.6.5 拟牛顿法 112 '{~[e** 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Kv1~,j6 6.6.6 针合成 113 f{L;, 6.6.6.1 针合成参数 114 'ParMT 6.6.7 差分进化 114 - |DWPU!" 6.6.8非局部细化 115 mE{QT ZS 6.6.8.1非局部细化参数 115 PN9vg9' 6.7 我应该使用哪种技术? 116
%X\A|V& 6.7.1 细化 116 #6#n4`%ER 6.7.2 合成 117 I:oEt 6.8 参考文献 117 f^QC4hf0 7 导纳图及其他工具 118 Va.TUz4 7.1 简介 118 =$bF[3D 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 #E=8kbD7 7.2.1 四分之一波长规则 119 RuVk>(?WK% 7.2.2 导纳图 120 \hI?XnL# 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 A9SL|9Q 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ZRc^}5}WA 7.5 斜入射导纳图 141 3 ;F 7.6 对称周期 141 2+)h!y] 7.7 参考文献 142 |Fze9kZO 8 典型的镀膜实例 143 YwY?tOxBe 8.1 单层抗反射薄膜 145 9&zR
i 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 >*O5Ry:4 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ;c]O *\/ 8.4 W-膜层 148 r|ZB3L|7 8.5 V-膜层 149 qHe
H/e%`V 8.6 V-膜层高折射基底 150 p`7d9MV^ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 D5Sbs( 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 & |