切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 186阅读
    • 0回复

    [技术]元件内部场分析仪:FMM [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    6313
    光币
    25710
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 06-11
    摘要 Vz\?a8qQ<  
    !iHJ!  
    .wPu #*  
    !xRboPg  
    元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 }rKKIF^f\S  
     aj|gt  
    元件内部场分析仪:FMM >39\u &)  
    oScKL#Hu  
    GEGg S&SM  
    元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 +8zC ol?j  
    ?AlTQL~c  
    评估模式的选择 < cUaIb;(4  
      
    |9;MP&68  
    x3C^S~  
    为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 fnJ!~b*qo  
    ln*_mM/Q%  
    评价区域的选择 &f"kWOe$X  
       (RM;T@`  
    %I^y@2A4`  
    dFw>SYrpu  
    元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 6?uo6 I  
    #*v:.0%  
    不同光栅结构的场分布 =JM !`[  
    |Ev V S  
    任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: Eq82?+9  
    M!Wjfq ^~  
    J.g4I|{  
    光栅结构的采样 D/<;9hw  
    ;R4qE$u2^  
    虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 &"/IV$H  
    AfqthI$*m  
    ns}"[44C}l  
    ,nnVHBN  
    分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 r)/nx@x  
    4)OM58e}  
    光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 1^R:[L4R`  
    3A)Ec/;~  
    JQde I+  
    输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) 863PVce",}  
    OO  /Pc  
    8r-'m%l  
    对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像 NkYU3[m$v  
    m! H7;S-(  
    输出数据的采样:二维周期光栅 y'21)P  
    IHaNg K2  
    当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
    TxDzGC  
     
    分享到