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tykA69X\W to0tH^pD 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。
6r"PtHr ,+p&ZpH 元件内部场分析仪:FMM m wuFXu/ kvU0$1 eYL7G-3 元件内部场分析器:FMM是
光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
uj.~/W1,! K;2]c3T 评估模式的选择 +MQvq\%tG =k4yWC5- d6lhA 7 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。
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} 评价区域的选择 `I$qMw,@ M/U$x /3K
D3^[OHi~a o3H+.u$ 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。
0F'75 FswMEf-| 不同光栅结构的场分布 ujcS>XN,1 mB(*)PwZ 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子:
:oB4\/(G# -_jV.`t }?P~qJ|1 光栅结构的采样 @4:cn R|Ft@]
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但
系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。
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Q, E!Ew3 X.0/F6U 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
1{ #Xa= V mQ7M4j* 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
*8p\.za1 4Uz:zB TGLkwXOkT 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) 'Rfvr7G/? <.3@-z>w2, sF;1)7]Pq 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
DT&[W<oN "xdJ9Z-B 输出数据的采样:二维周期光栅 @{_PO{=\C (2@b ,w^ 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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