摘要
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$Q#n'#c Z+U -+eG 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
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+ 元件内部场分析仪：FMM ~
i+XVo ($<&H>j0 "!P h 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
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q? ~fD\=- S1 评估模式的选择 ",aNYJR>*! am? k Sd ^I >; 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
EgPL+qL Mn&_R{{= 评价区域的选择 $t& o(]m 6 M:?W " 
+|g*<0T5< ,rN$ah$CL 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
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ikte 不同光栅结构的场分布 V Zbn@1 nU{Qi;0 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
>ryA:TO{ 3HuocwWbz L;*7 p9 光栅结构的采样 |(W04Wp"@ Kh=\YN\E< 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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V0A> + b7^q(}qE 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
fCNQUK{Gs5 UZFs ]z!,k 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
h`9 & :zr e^@ZN9qQ :D3:`P>, c 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） ] Zh $9YK aO}hE 2] '")'h 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
1!)'dL0mI 8dx 7@y?z 输出数据的采样：二维周期光栅 T.z efoZ rd%uc~/ 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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