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    [技术]元件内部场分析仪:FMM [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-06-11
    摘要 by y1MgQd  
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    k;:u| s8NS  
    kFa?q} 47  
    元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 (b 2^d  
    ]zMBZs  
    元件内部场分析仪:FMM }9Dv\"t5  
    o(SJuZC/U  
    UCj#t!Mw  
    元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 \utH*;J|x  
    g$T_yT''  
    评估模式的选择 FivaCNA  
      
    4!s k3Cw{  
    Sl<-)a:  
    为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 &fy8,}  
    vls> 6h  
    评价区域的选择 0JRB Nh  
       6=lQT 9u{  
    | v'5*n9  
    \w_[tPz}  
    元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 eD1MP<>h  
    z4fK{S  
    不同光栅结构的场分布 dvWlx]'  
    |Gs-9+'y  
    任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: *U^I `j[u  
    [[DFEvOEh  
    yrYaKh  
    光栅结构的采样 PWD]qtr  
    %mv x}xV  
    虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 !9cPNIi  
    h=y(2xA  
    ;3}b&Z[N]  
    4sE=WPKF#  
    分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 B;7s]R  
    43Uy<%yb>}  
    光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 Q)X\VQcgj  
    %t|2GIu  
    XBt0Ez  
    输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) h?tV>x/Fu  
    0H]9$D  
    ] "vdC}  
    对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像 0 S8{VZpy  
    |wn LxI  
    输出数据的采样:二维周期光栅 7IW7'klkvD  
    4i&!V9@:  
    当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
    I,?LZ_pK  
     
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