摘要 ^ Hg/P8q
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bpW!iY/q3 0x@A~!MoP 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
)CLf;@1 O~ 27/ 元件内部场分析仪：FMM G}VDEC oV9z(!X/ >SoO4i8 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
DzC Df@TB" C /G]v*MBQ 评估模式的选择 nL+p ~Hi CbOCk:,g5 yHNuU)Ft 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
O$qtq(Q% DtWx r 评价区域的选择 5 6DoO' w2{g,A | 
$W& :(& Fu7M0 X'p 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
+~Tu0?{Z 0 nIn2 *r 不同光栅结构的场分布 %<} <'V0 :g2
}C 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
x7dEo%j pY o=oI m`y9Cuk 光栅结构的采样 p|3b/plZ h?N ek+1' 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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r\2vl8X~ "uKFOV?j& 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
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=Ba 2-dh;[4 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
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Mm 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） icgJ;Q 5 ;3"@g]e <*(^{a. O 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
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Z]8cw # HAC*n 输出数据的采样：二维周期光栅 8{0k0 &x 8 #}D
: ( 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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