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!` S%l1[Z V{^fH6;[ 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
0 Vgn N SJu f` 元件内部场分析仪：FMM K]]r OF B7jlJqV 5FR#_}k]_F 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
`?|]: 7'< 'krMVC- 评估模式的选择 %'~<:>:"E _"t.1 +-K es(LE/`e 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
hF PRC0ftE $.]t1e7s 评价区域的选择 hO@v\@;r E @}j}/%'O 
z=h 5 u9^;~i, 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
L$kAe1 V^m =y(YMWGS 不同光栅结构的场分布 \ A UtGP 8'\,&f`Y 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
i&G `ah> uV:uXQni`` p$G3r0 @ 光栅结构的采样 s 6h Wq&C `1v!sSR0R 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
I; }%k;v6 d/z X% 
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e(^5E |g^W @.P 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
C>;8`6_!gU iiDk k 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
`A{~}6jw B148wh#r jmzvp6N$8 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） ]4~D;m v 5BO!K$6 cMk%]qfVo8 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
} $c( $ e Em0c]]9 输出数据的采样：二维周期光栅 G [-jZ "J :NW_U 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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