摘要 V0i$"|F+ E
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q/79'>`|ai caht4N{T 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
_9r{W65s ,O$C9 pH9 元件内部场分析仪：FMM f34&:xz2U ; bE6Y]"Rz wP?q5r5 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
K~T\q_ZPZ a*y mBGF 评估模式的选择 n^#L B* q %WR"85 IoOnS) 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
!3# }ZC2 ]M;! ])b$ 评价区域的选择 krc!BK`V ^iS:mt 
8 f5^@K\c DjvgKy=Jr_ 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
I=a$1%BzEX # HYkzjb 不同光栅结构的场分布 1s[-2^D+EM yVzg<%CR^ 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
S]O Hv6 ~W{h-z%q vyGL n 光栅结构的采样 ZH_4'm!^g| _\PoZ|G4y 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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olh3 R.M< |/s 2AzDD 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
6qpV53H tuV?: g? 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
w8I&:"^7< N o\&~ Qp&yS U8 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） q|l|mO u ?Mu*r? eH/\7)z 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
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Q@C8 输出数据的采样：二维周期光栅 ^oO5t-9<! ){6)?[G 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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