[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 !Yw3 d   
]a!xUg!S  
;i"*Ll>Q)  
Da v PYg  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 qt3PXqR7:  
^m/oDB-  
元件内部场分析仪：FMM P{5
-Mx!{&  
"F}'~HWZp  
v0kqu  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 <N`J`J-[  
PI~1GyJr@;  
评估模式的选择 Qq@G\eRo  
   4_UU<GEp  
Pf$pt  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 Mze;k3  
[tH-D$V  
评价区域的选择 5hbJOo0BZ  
   3 AHY|  
je6CDFqw  
+MB!B9M@  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 %\kOLE2`  
v|ck>_" .  
不同光栅结构的场分布 Wfz\`y  
7]BW[~77  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： +*n-<x5"  
qA:#iJ8w  
eVR5Xar  
光栅结构的采样 X<MO7I  
yCXrVN:`,  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 &I({T`=  
$XU5??8  
%"X-&1vV  
a2f^x@0k  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 Lqp8yVO  
M^7MU}5w  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 +@
Ad1fJi  
`Bw9O%]-S  
k78Vh$AA6%  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） 8$c bVMjh  
yE\wj  
a|BcnYN  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 +'G0{;b  
Otz E:qe  
输出数据的采样：二维周期光栅 x-'~Bu  
|T4kqW{  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 ]O` {dnP