摘要
4I NO .
Wz Zb-F
4GaF: / + e4o~ p 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
]3C7guWz )Ibp%' H 元件内部场分析仪：FMM NbfV6$jo Q7f\ 5QjT Bm .%bA>
元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
LL.YkYu elw<(<u` 评估模式的选择 @@_f''f$ 3C2L _ K3 llI`"a 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
rFdovfb
bf::bV?T 评价区域的选择 rT5dv3^MW! mZ*!$P:vy" 
)CEfG nIKh<ws4z 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
[,$] %|6wt pT.iQ J| 不同光栅结构的场分布 .J'}qkz~
[v#t 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
|%we@
E ;#cb%e3 h0d ;a 光栅结构的采样 : xB<Rq TDk' 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
-+ -@Yq$ ;ukwKf s 
Hj$JXo[U .[ NB"\<q 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
8?h-H #h t|%w Vj?_ 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
gI<TfcC $9j\sZj& x{j|Tf 3,G 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） vc5g 4ud m "h{HgJd p,Qr9p3y 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
G!uoKiL tc.R(F96 输出数据的采样：二维周期光栅 r|:i: ii AK} wSXF 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
y08.R.
l
