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[;)~nPjI 4;08n|C 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
U 9bFUK/z DrW/KU,{+( 元件内部场分析仪：FMM (6 9kvA&|q \? J=mE@;1 l)|z2 H 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
gX/|aG$a!U % cU-5\xF 评估模式的选择 A[K:/tB no e b f *sIi$1vHu 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
g]:..W 7 h<t <]i' 评价区域的选择 mm3zQ!2j. FuIWiO( 
A;K{ &x FA5k45w L 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
QSO5 z2 | [I#Q 不同光栅结构的场分布 NHst7$Y< u0<d2Y 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
C6Um6 X9/i @Z"QA!OK~c 4yJ01s 光栅结构的采样 E;ndw/GZjR :FEd:0TS 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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":5~L9&G &e5^v 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
K*hf(w9="% H{p[G hp 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
Zb5T90s% h9@gs,' -K{\S2 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar）
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3AjzW q{N lF$X 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
2}W6{T' #)Id J] 输出数据的采样：二维周期光栅 >B|ofwm* ,58kjTM 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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