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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 Bt~s*{3$8  
    9/TY\?U  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 H3FW52pjX  
    y%(X+E"n*  
    M]_E  
    场景 ksI>IW  
    &~~s6   
    ;b~~s.+  
    tm)*2lH6  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 R9dP,<2  
    [B/0-(?  
    系统构建块
    4,1oU|fz  
    mBl7{w;Iv  
    WYIw5 jzC  
    UVX"fZ)  
    组件求解器 )s")y  
    7 ^I:=qc72  
    (!zM\sF  
    9;f|EGwZ  
    k$[{n'\@  
    oh\,OW  
    系统构建块 1kFjas `g  
    ,seFkG@1  
    MV936  
    HhSjR%6HY;  
    总结 1bRL"{m^)-  
    H?:Jq\Ba0  
    qi=3L  
    <MZi<Z`  
    几何光学仿真 Fj=NiZ=  
    通过光线追迹 * BOBH;s  
    h5onRa *7  
    结果:光线追迹 km>o7V&4G  
    $L{7%]7QC  
    iHz[Zw^.s  
    DP>mNE  
    快速物理光学仿真 FMS2.E  
    通过场追迹 &BgU:R,  
    \Hum}0[  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 <-)9>c:k  
    Ak=UtDN[  
    Fk$@Yy+}e  
    ,L%p  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 F0;1zw  
    `pYE[y+  
    wItzcY1m  
    5Rs?CVVb  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 +89o`u_l%  
    k+\7B}7F  
    v MWC(m  
    6y@<?08Q  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 FOp_[rR   
    "jGe^+9uT  
    ,k%8yK  
    +{ab1))/  
    总结 >sV Bj(f  
    r}@< K  
    2{};6{yz  
     
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