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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 laaoIL^  
    nLnzl  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ~{[,0,lWU  
    +=(@=PJ6  
    g715+5z[  
    场景 %(g!,!l)  
    MMf_  
     BXLw  
    >;k~B  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ie<m)  
    8V+  
    系统构建块     k]yv#Pa  
    tD No; f  
     )!d_Td\-  
    (z X&feq  
    组件求解器 S?# 'Y*h  
    ou [Wz{  
    -d6PXf5  
    pNc4o@-  
    }62Q{>`  
    #,rP1#?  
    系统构建块 avxI%%|  
    P;p;o]  
     4 zipgw  
    0ZtH  
    总结 Ms=11C  
    xO;Qr.3PX  
    ]H=P(Z -  
    *|)O  
    几何光学仿真 W29GM -,K  
    通过光线追迹 v#$}3+KVC  
     "Kf4v|6;  
    结果：光线追迹 :c0 |w  
    +fG~m:E  
     (eO_]<wmky  
    anFl:=  
    快速物理光学仿真 r }Nq"s<  
    通过场追迹 EtA,ow  
     3E:+DF-Z\  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )-S;j)(+  
    7dXh,sD  
     ]d,#PF  
    -(|}:J  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Bt"*a=t;  
    .;NoKO7)  
     X*rB`M7,  
    x DX_s:A  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )LE#SGJP  
    T1fX[R ^\  
    R|dSjEs  
    ;%xG bg!lg  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Aq{7WA  
    -.hH,zm  
     {;?bC'  
    StM)lVeF  
    总结 T( sEk  
    ]=m0@JTbG  
    k{pn~)xg  
     
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