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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 4I z.fAw  
    BL7>dZOa  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 MV9r5|3-  
    b#e]1Q  
    !eV^Ah>PZ  
    场景 $4sA nu]  
    _@7(g(pY 3  
     4^0\dq  
    ,=yOek}  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 0,bt^a  
    xJ$Rs/9C  
    系统构建块     S3nB:$_-;  
    p1C_`f N,  
     n&(3o6i'  
    8 qn{  
    组件求解器 )7tV*=?Ic8  
    cl ?< 7  
    * q+oeAYX  
    LE<:.?<Z-  
     PE^eP}O1  
    ]Qh[%GD  
    系统构建块 iOKr9%9?Z  
    :vw0r`  
     ZBPd(;"x+  
    2-QuT"Gkd  
    总结 }5QZ6i#  
    tWcizj;?wK  
    llHN2R%(  
    \dC.%#  
    几何光学仿真 "0!~g/X`rK  
    通过光线追迹 V|+ `L-  
     Z3OZPxm  
    结果：光线追迹 )-MA!\=<  
    #( $k 3OA  
     t `N ">c"  
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    快速物理光学仿真 y>DfM5>  
    通过场追迹 [lmHXf@1C  
     (xI)"{   
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 H(  
    8XLxT(YFIs  
     4he v ;  
    +s#S{b  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 F<6KaZ|  
    =x|##7  
     ?j &V:kF  
    53g8T+`\(  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 e-L5=B  
    M!;`(_2  
    ykErt%k<n  
    p.6$w:eV  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 RTdD]pE8Q  
    `I]1l MJ)o  
     IKNFYe[9e  
    }CB=c]p  
    总结 QO1A976o  
    "Nk=g~|  
    WZ-4^WM=!  
     
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