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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 Zc9S[ivq  
    uy=<n5`oNG  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 RHt~:D3*  
    $yFR{_]  
    0+rBGk  
    场景 gF~ }  
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     ^g+M=jq _  
    'EU|w,GL}  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 w*4sT+ P  
    *+ O  
    系统构建块     @Y6~;(p  
    {~=gKZ:-@  
     Aacj?   
    r?Pk}Q  
    组件求解器 Wb{8WPS  
    '&y+,2?;Y[  
    |e&hm ~R1  
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     !h* F58  
    <QK2Wc_}-"  
    系统构建块 # 9ZO1\  
    n{%[G2.A  
     zhACNz4tJ  
    S'q4va"  
    总结 xC$CRzAe5p  
    l]P3oB}Yo  
    RLF]Wa,  
    `lE8dwL  
    几何光学仿真 $Mqw)X&q  
    通过光线追迹 !ma'*X  
     Q"`J-#L  
    结果：光线追迹 ZOHGGO]1M  
    E njSio0  
     t. kOR<  
    d ?OsVT; U  
    快速物理光学仿真 &qeM YYY  
    通过场追迹 6\/(TW&  
     VQ`a-DL  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #mcGT\tQ  
    )}R w@70L-  
     4kf8Am(  
    ;rh@q4#  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 O<qo%fP  
    ?{-y? %y  
     _WHGd&u  
    k /lDE  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Jg%jmI;Y  
    ^e WD4Vp|4  
    VH$hQPP5d  
    >[gNQJ6  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 W&0KO-}ot  
    !qVnziE,,  
     . ,n>#lL  
    X/`M'8v.%  
    总结 xy1R_*.F^T  
    [NIaWI,>  
    c7(Lk"G8  
     
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