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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 ['q&@_d7  
    8 Ti G3  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 xyA-P& N  
    \, &9  
    Qd &" BEs  
    场景 c+kU o$  
    kM/Te{<  
    [8XLK4e  
    8z2Rry w  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ?+0GfIV  
    e5?PkFV^a1  
    系统构建块
    n6MM5h/#r  
    C [uOReo  
    WC,+Cn e  
    _:g&,2bc  
    组件求解器 k |YWOy@D~  
    V Z y4_v=  
    #!2k<Q*5uT  
    LD>\#q8a*  
    ;eL9{eF  
    F_;DN: {  
    系统构建块 EW<kI+0D  
    2xwlKmI N  
    a4 MZ;5  
    T?Fcohz(  
    总结 +7V{ABfGl  
    Wg`AZ=t  
    7.Kc:7  
    CZ<~3bEF  
    几何光学仿真 5O/i3m26  
    通过光线追迹 MJ`3ta  
    \x{;U#B[3>  
    结果:光线追迹 )B# ,  
    errH>D~  
    #R0A= !  
    a:TvWzX,  
    快速物理光学仿真 +pm[f["C.  
    通过场追迹 8.J( r(;>  
    cO2& VC  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 }x0- V8  
    =sJ _yq0#R  
    x%+{VStA  
    %V`F!D<D  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 I` K$E/ns  
    Yap?^&GV  
    WE6a'  
    #oeG!<Mn  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *^\HU=&  
    *OJ/V O  
    51C2u)HE  
    <h).fX  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 3.d"rl  
    \c v?^AI  
    kum#^^4G|  
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    总结 im7nJQ^H$q  
    J_;N:7'p  
    2aw&YZ&Xo  
     
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