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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 ;;pxI5  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 "gADHt=MIR  
    jhr{JApbJv  
    .iNPLz1  
    场景 AB'q!7NR  
    m64 6|G5  
    *y9 iuJ}  
    XO~xbG7>gZ  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 3@kiUbq7Eu  
    o>mZ$  
    系统构建块
    h@7S hp  
    +|Z1U$0g  
    !([Q1r{u  
    ,R5NKWo  
    组件求解器 @C{IgV  
    rlqn39  
    L:"i,K#P  
    X[\b!<C  
    TK<~ (Dk  
    ER~m &JI  
    系统构建块 <*E{z r&  
    T>2)YOx  
    L!x7]g,^  
    9!zUv:;  
    总结 M)C. bo{p  
    q$`{$RX  
    O'{UAb+-  
    /PH+K24v~  
    几何光学仿真 ~gQ$etPd  
    通过光线追迹 <GC<uB |p  
    +QT(~<  
    结果:光线追迹 C2NJrg4(  
    ^UHt1[  
    JG @bl  
    Y4e64`V)  
    快速物理光学仿真 i,=greA]"  
    通过场追迹 4 :RL[;  
    S'#KPzy.  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 i$gm/ZO  
    &;S.1tg  
    OQ;'Xo  
    0Aw.aQ~E8i  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 2j&-3W$^  
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    Bh$ hgf.C  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 2mN>7Tj:  
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    Mk9'  
    k_?xi OSh  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ;S5*n:d  
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    总结 (~}IoQp>  
    }UNRe]ft$  
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