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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 }fpya2Xt  
    CU$kh z"  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 5:Qz  
    y>{: [L9*  
    'X~tt#T  
    场景 JFq wC=-  
    p:,Y6[gMo  
    ?5|;3N/zt  
    yev!Nw  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ffCDO\i({  
    E3L?6Qfx>  
    系统构建块
    ~PQ.l\C  
    ;rh.6Dl  
    ^s,3*cAU  
    ?M2(8 0  
    组件求解器 WSThhI  
    4.6$m  
    !Jg;%%E3:i  
    )!y>2$20 r  
    ^({)t  
    a"~o'W7  
    系统构建块 T.q2tC[bR  
    ?}||?2=P  
    eK8H5YE  
    B|(g?  
    总结 ^df wWP  
    PN}+LOD<t  
    8(3(kZxS  
    ;yH>A ;,K%  
    几何光学仿真 bT,:eA  
    通过光线追迹 FU|brS t  
    w+o5iPLX  
    结果:光线追迹 =;Id["+  
    (1/Sf&2i  
    M 8^ID #  
    3 qYGEhxv  
    快速物理光学仿真 "EW8ll7r  
    通过场追迹 ~W'DEpq_  
     %zavSm"  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 $+gQnI3w  
    s8j |>R|k  
    `At.$3B  
    l![M,8  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 C*`WMP*  
    *MJm:  
    p l)":}/)  
    g/?Vl2W  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 %V_ XY+o  
    #-az]s|N  
    I#l}5e5  
    kuY^o,u-1e  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 !_glZ*tL  
    o$_0Qs$  
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    总结 w+$$uz  
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