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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 ZiH4s|  
    W^H[rX}=  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 `I|Y7GoUO  
    3] U/^f3  
    j_zy"8Y{  
    场景 QYBLU7  
    D2:ShyYAS  
    0R&7vn  
    QX(t@VP  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 +fMW B  
    8h|~>v  
    系统构建块
    Au )%w  
    |IWm:[H3  
    ZU9RvtbKB  
    Mw;^`ZxT  
    组件求解器 % <%r  
    <%`z:G3  
    $@dPIq4o;}  
    H[r64~Sth  
    4)N~*+~\h  
    2+LvlS)C  
    系统构建块 %NL7XU[~  
    !6s]p%{V  
    6SSrkj}U  
    t 9.iWIr  
    总结 @oMl^UYM=  
    (L<G=XC  
    C[JPohm  
    @d[)i,d:G  
    几何光学仿真 %U97{y  
    通过光线追迹 Ti5"a<R4m6  
    V}G; oz&>)  
    结果:光线追迹 g aXF3v*j  
    @hOY&  
    4-xg+*()  
    maQOU1  
    快速物理光学仿真 Y3luU&'  
    通过场追迹 D_I_=0qNd  
    _3_o/I  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 IBv9xP]BZ  
    s3gT6  
    MXY!N /  
    }e,*'mCC*  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 M5LqZyY  
    $D#eD.  
    XZPq4(,9}  
    &R}2/Mt  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 fAeq(tI=  
    DzvGR)>/  
    eN I6V/\`  
    g*:f#u5  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 W#<ZaGsq  
    J,wpY$93  
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    Y3f2RdGl  
    总结 y8O<_VOO}"  
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