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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 Zc_%hQf2A  
    Qi 3di  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 t% -"h|  
    f^P:eBgpx  
    LciSQ R!  
    场景 uSeRn@  
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     pvCf4pf~  
    :L~{Q>o  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 b51{sL  
    mVJW"*}8  
    系统构建块     O5:?nD  
    s*"Yi~  
     3#{{+5G  
    WE_jT1^/  
    组件求解器 V'kCd4  
    8VbHZ9Q  
    :xn/9y+s  
    aR3R,6ec  
    dKs^Dq  
    <M(Jqb cWa  
    系统构建块 2~:jg1  
    Rgb1B3gu  
     qH3<,s*  
    @8IY J{=  
    总结 Who7{|M\'  
    OQ[E-%v1 R  
    ]}4{|& e  
    0* G5Vd  
    几何光学仿真 }LXS!Ff:  
    通过光线追迹 yc./:t1at>  
     BXNt@%  
    结果：光线追迹 ds@w=~  
    H+^93  
     Kd 2?9gaw  
    oV4+w_rrLc  
    快速物理光学仿真 OYcf+p"<\  
    通过场追迹 3Uzb]D~u  
     n5nV4 61U  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 G~,K$z/-l  
    2h<{~;  
     deD%E-Ja  
    $ O1w 6\}_  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 -7 GF2 @  
    q3+G  
     +&LzLF.bK  
    )XB31^  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #[.vfG  
    l `D>h2]  
    W$&kOdD!$  
    bFivHms  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 w28!Yj1Q  
    ]Lc:M'V#  
     Ql1HaC/5)-  
    E)eRi"a46  
    总结 <+MNv#1:w  
    wzX 1!?  
    "=cWcztiP  
     
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