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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 x:z0EYL  
    zV.pol  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 :nGMtF  
    2qj{n+  
    45+{nN[  
    场景 ;e s^R?z  
    -l*g~7|j  
     TT}]wZ  
    \M+L3*W  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 1;r69e  
    ;#anZC;  
    系统构建块     Plo,XU  
    ;!u;!F!i  
     y!Cc?$]_Y  
    ~!:0iFE&H  
    组件求解器 l?E|R Kp  
    hKe30#:v  
    l I-p_K  
    (H#M<N  
    T{Zwm!s  
    6`e@$(dfA  
    系统构建块 #G;X' BN  
    Px;Cg 6  
     }KB[B  
    i^2IW&+}e}  
    总结 Z[L5 ;  
    2[R$RpA_  
    F:T GsV#  
    %u!XzdG  
    几何光学仿真 r/r:oXK  
    通过光线追迹 >mm' -P  
     &7[[h+Lb  
    结果：光线追迹 b`~wG e  
    \V%_hl  
     8tc*.H{^+  
    /L~m#HxWU  
    快速物理光学仿真 4ke^*g K<  
    通过场追迹 nWgv~{,x  
     ^%[F8\}XPJ  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 [xaisXvI4  
    ([k7hUP  
     284zmZZ  
    +=fKT,-*G!  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 2CLB1  
    a(x?fa[D  
     'gTmH[be  
    %$mjJw<|&  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ^ eh /HnJs  
    K{DAOQ.z  
    x>3@R0A 1:  
    5K.+CO<  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 v'9m7$  
    2{o10 eL  
     RU_L<Lpi  
    v\A.Tyy  
    总结 sdr.u  
     *4yN3y  
    &8?`<   
     
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