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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 i,BE]w  
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    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 4r!8_$fN?G  
    BlQu9{=n  
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    场景 <">tB"="b  
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    在VirtualLab Fusion中构建系统 c *(]pM  
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    系统构建块     ]sJWiIe.  
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     +2=N#LM  
    -tWkN^j8+  
    组件求解器 zp>q$e40  
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    _ 97  
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    eLcP.;Z  
    RQ# gn  
    系统构建块 .,[zI@9  
    |:n4t6  
     2-i>ymoOS  
    ygr[5Tl  
    总结 _B)LRD+Hj  
    s8 .OL_e  
    ZKyK#\v<  
    Q+E%"`3V4l  
    几何光学仿真 E_]L8UC;m  
    通过光线追迹 l?v-9l M  
     KK`P<^8J  
    结果：光线追迹 /u{ 9UR[g  
    |*"uj  
      ] L4B  
    .Ya]N+r*  
    快速物理光学仿真 P& C,EE$  
    通过场追迹 O.e^? ysp/  
     ?V%x94B  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \"c;MK{  
    Fku9hB  
     (UPkb$Qc  
    ?c0OrvM  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方  Ok[y3S  
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    Se qnO.\  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 0\O*\w?  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 _|rrl  
    H[ocIw  
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    总结 \2)a.2mAz  
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