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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 jNG?2/P6&  
    O| 6\g>ew  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 'EET3R K-S  
    Dke($Jr{  
    jl-Aos"/  
    场景 J$9xC{L4  
    @))}\:  
     mQ60@_"Y=,  
    ^!p<zZ  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 v&b.Q:h*'  
    }-q`&1!t  
    系统构建块     $< K)fbG  
    K&IrTA j}  
     kbp( a+5  
    avt>saR  
    组件求解器 QJIItx4hE  
    *(&ClUQQ  
    @f5@0A\0  
    M?~<w)L}  
    KWh M  
    {.3  
    系统构建块 ,rB9esxic  
    jo;uRl  
     k4F"UG-`  
    U|Z>SE<k  
    总结 <A -(&+  
    <K#'3&*$s  
    V)1:LLRW  
    0gOrW=  
    几何光学仿真 Ue g N-n  
    通过光线追迹 TcKvSdr'  
     X=p3KzzX  
    结果：光线追迹 *L;pcg8{  
    a?,[w'7FU  
     yXTK(<'  
    U!\2K~  
    快速物理光学仿真 LE<u&9I\  
    通过场追迹 ~C"k$;(n  
     c.8((h/  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Od!F: <  
    9o`7Kc/g  
     uh5Pn#da^  
    .A*VLF*m  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 zD)IU_GWa  
    P!FEh'.  
     eg2U+g4  
    &>W  (l.  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 'wz\tT^  
    ;J(rw  
    p2Dh3)&  
    pF sCd"zv  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 |k`f/*  
    ws>WA{]gq  
     r:c@17  
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    总结 <Qcex3  
    f2O*8^^Y{Q  
    mvHh"NJ  
     
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