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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 Y2uy@j*N  
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    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ^Kl<<pUaV  
    ^=-W8aVi>  
    L Do~  
    场景 g_Y$5ft`  
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    B.Z5+MgM  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 Y)S f;  
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    系统构建块     ;;^?vS  
    ygV-Fv>PQ  
     qMqf7 .  
    SrWmV@"y  
    组件求解器 |BbrB[+ v[  
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    系统构建块 `9f7H  
    Hs.5@l  
     d\ 7OtM  
    L_zB/(h  
    总结 We"\nOP  
    YMwL(m1  
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    Ao9=TC'v$'  
    几何光学仿真 ]MMXpj,9h  
    通过光线追迹 !1+!;R@&H>  
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    结果：光线追迹 ;ejtP #$  
    ^S(["6OJ(  
     2+\@0j[q  
    \xk8+=/A  
    快速物理光学仿真 =\jPnov!  
    通过场追迹 =~$)Ieu  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 y[f6J3/  
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     Uv:NY1(3!  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 A$J?-  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 2C &l\16  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ^;mGOjS  
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    总结 V7Mp<x%  
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