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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 OJD!Ar8Q  
    e?+&2zMq  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 vsJM[$RF  
    rUZ09>nDy  
    P4fnBH4OQ  
    场景 "6gBbm  
    .yB{+  
    2YK2t<EO  
    f([d/  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 avW33owb@  
    h_6c9VI  
    系统构建块
    Bo8NY!  
    NRazI_Z  
    K9ek  
    hG >kx8h  
    组件求解器 u>/Jb+  
    =3dd1n;8>  
    D B(!*6#?  
    myF/_o&Ty  
    6eb~Z6n&?  
     %e(DPX  
    系统构建块 4+MaV<!tU^  
    O]KQ]zN  
    b-RuUfUn0  
    cp6I]#X  
    总结 d6)+d9?<  
    t \-|J SZ  
    sfk;c#K  
    9-!GYa'Z  
    几何光学仿真 )FN$Jlo  
    通过光线追迹 xqfIm%9i}  
    =yWdtBng  
    结果:光线追迹 FM7`q7d  
    <u/(7H  
    Y|buQQ|  
    ?}#Iu-IA  
    快速物理光学仿真 &Tg~A9y\  
    通过场追迹 CZf38$6X  
    @@cc /S  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 *MQ`&;Qa,  
    LCW}1H:Q  
    !|8"}ZF  
    IyAD>Q^  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 e'->Sg  
    3i~X`@$k>  
    V>D}z8w7  
    {W HK|l   
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 }G<~Cx5[  
    ;SX~u*`R  
    {C0Y8:"`  
    u:^sEk"Lk'  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *K BaKS  
    OY2u,LF9H  
    RFX{]bQp9  
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    总结 )S;3WnQ)  
    Cj$:TWYIh[  
    s+(@UUl  
     
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