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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 ;rHO&(h-  
    (K<9h L+X  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 >I'% !E;  
    E6A /SVp  
    vHKlLl>*2  
    场景 EL D!{bMT  
    HdX2YPYn;  
     55DE\<r  
    'Jj=RAV`  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 "484 n/D  
    uGVy6,  
    系统构建块     QP(BZJC  
     9A$m$  
     k%81f'H  
    QlZ@ To  
    组件求解器 u{e-G&]^;  
    :d,^I@]  
    $l[Rh1z`;+  
    UKBJ_r  
    ~Y!kB:D5;~  
    04@cLDX8uB  
    系统构建块 -:Rp'SJ  
    #JW+~FU`  
     +j/~Af p5f  
    F -gE<<  
    总结 svhI3"r  
    ko\):DN  
    n.}T1q|l  
    -ysn&d\rV  
    几何光学仿真 A%bCMP  
    通过光线追迹 C NrII sJ  
     !{%:qQiA  
    结果：光线追迹 aaW]J mRb  
    dJk9@u  
     0 p uY"[c  
    <[~,uR7  
    快速物理光学仿真 83Ou9E!W  
    通过场追迹 _e<o7Y@_  
      #ToK$8  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 !36]ud&  
    `ldz`yu6++  
     {]N3f[w  
    8Cx^0  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /n,a?Ft^N)  
    t0E51Ic@  
     x!< yT?A  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 EG<s_d?  
    Xl-e !  
    E8[T   
    YA]5~ ZE\  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 _2ef LjXQ  
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     Q[4: xkU  
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    总结 aAt>QxGQW  
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    Li{~=S@N*  
     
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