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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 kH0kf-4\  
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    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 <]S M$) =D  
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    A;C4>U Y  
    场景 p,8:(|(  
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    uh)f/)6  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 <Vyl*a{%  
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    系统构建块     =}0>S3a.7  
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    组件求解器 K nn<q=';G  
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    系统构建块 fk5pPm|MiL  
    !qs~j=;y3  
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    QA!'p1{#  
    总结 , YE+k`:  
    :Ot5W  
    N':d T  
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    几何光学仿真 FO|Eg9l  
    通过光线追迹 ,}OQzK/"mP  
     gWjz3ob  
    结果：光线追迹 ;2eZa|M*q  
    8`w#)6(V  
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    快速物理光学仿真 60 p*4>^v  
    通过场追迹 ? O e,  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 5m6I:s`pK  
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     ?B4X&xf.D  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 6x_D0j%^]  
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     .TRp74  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 W(*?rA-PP  
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    xOpCybmc  
    pB]+c%\  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ,#=;V"~9  
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    总结 bU"2D.k  
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