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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 @Tr8.4  
    L +s,,k  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 #s Ebu^  
    t <#Yr%a  
    7@Qz  
    场景 fF8g3|p:  
    3&-BO%i  
    0BIH.ZV#  
    cQUmcK/,  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 t{K1ht$[:  
    'on, YEp  
    系统构建块
    P{)eZINlE  
    P$D1kcCw  
    C=AX{sn  
    y)!K@  
    组件求解器 K$\]\qG6  
    4>>d "<}C  
    qMz0R\4  
    V5RfxWtm:  
    aC$hg+U$G  
    q=E<y  
    系统构建块 /'p(X~X:l  
    bY;ah;<  
    U)+Yh  
    B}YB%P_CWs  
    总结 7WW@%4(  
    K9gfS V>]  
    +X0?bVT  
    pVP CxP  
    几何光学仿真 s&!g )  
    通过光线追迹 O%y.  
    9#.nNv*z3  
    结果:光线追迹 L*1C2EL/q  
     -}{c;pT  
    z6b!,lp  
    ,)nO   
    快速物理光学仿真 u-At k-2M  
    通过场追迹 Y_)!U`>N?  
    k 0z2)3L  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 !,PG!Gnl  
    O!kBp(?]  
    Qhsh{muw(  
    -Yy,L%E]F:  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 @%fNB,H`  
    diGPTV-?$  
    $+)SW {7  
    pog*}@ OS  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Je[wGF:%:$  
    B3]q*ERAo  
    'q8T*|/  
    =M)+O%`*6  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 B_anO{3$4  
    $uF} GP_)  
    (u+3{Eb  
    Lk6UT)C  
    总结 fn(KmuNA  
    0$%:zHi5g  
    V.6h6B!vB  
     
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