切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 632阅读
    • 0回复

    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7208
    光币
    30181
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 q}i#XQU  
    O+!4KNN.-  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 kR+}7G+  
    >V.?XZ nt  
    0d[O/Q`  
    场景 KXMf2)pa  
    J_F\cM   
     /[c_,G" "  
    PE{<' K\g  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 C.4(8~Y=~  
    wQW` Er3w  
    系统构建块     jP+{2)z"W  
    Gd!_9S`68  
     G=qlE?j`j  
    pg5W`4-F  
    组件求解器 ~{DJ,(N"n  
    Dp ['U  
    7 \xCNOKh  
    Z6B$\Q5Od  
    [( xPX  
    cvw17j  
    系统构建块 pI f6RwH}%  
    i:Y5aZc/Ds  
     %nJo:/  
    UR'v;V&Cb\  
    总结 9@qkj 4w  
    uznqq}  
    T T 3 6Y  
    AclK9+V  
    几何光学仿真 ="G2I\  
    通过光线追迹 Y4YZM  
     0x*1I1(c  
    结果：光线追迹 _G)A$6weU  
    b1^wK"#  
     (e_<~+E  
    it{Jd\/hR  
    快速物理光学仿真 ftmP dha%+  
    通过场追迹 zWPX  
     ,g'>Ib%  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ,J2qLH1  
    [PXq<ST  
     }72\Aw5  
    P,zQl;  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /0>'ZzjV,  
    XD8Cf!  
     %4` U' j  
    U6|T<bsOl  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 >/RFff]Fh0  
    {nM1$  
    VZ IY=Q>g  
    hrJ(][8  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Bi9Q8#lh  
    E"[p_ALdC  
     >+<b_q|P  
    |) cJ  
    总结 yQ^,>eh  
    $XcH.z  
    7V@r^/`8N  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表