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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 J5Fg]O*  
    4'54  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 2a=WT`xf ?  
    9$Mi/eLG2N  
    !Y]}& pUP  
    场景 !qcu-d5b  
    @mJN  
     YC=BP5^  
    ;*W]]4fy  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 6ddkUPTF  
    Z{p6Q1u  
    系统构建块     aG}9Z8D  
    pN0c'COy^  
     I I>2\d|   
    R|+R4'  
    组件求解器 i8B%|[ nm  
    F41!Dj7  
    rY!uc!  
    ZVp\ 5V*  
    0!vC0T[  
    kw-/h+lG  
    系统构建块 fSqbGoIQ  
    0"2 [I  
     GmL|76  
    Y6L+3*Qt  
    总结 U[A*A^$c}  
    OaCL'!  
    i9!Urq-  
    5&X  
    几何光学仿真 "]_|c\98  
    通过光线追迹 ImV54h'  
     y9*H  
    结果：光线追迹 +cV!=gDT  
    K%pmE?%,8  
     oyr2lfz*  
    .897Z|$VB  
    快速物理光学仿真 'hek CZZ_I  
    通过场追迹 #Y5I_:k  
     tt^ze|*&t  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Xl/G|jB9  
    g?>AY2f[5  
     44W3U~1  
    %C3cdy_c  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *}_/:\v  
    9iFe^^<ss  
     p_z"Uwp  
    -ufmpq.  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 <{ ) 4gvH  
    Mb>6.l  
    ]~qN<x  
    lTB!yF.r|  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 87^ 4",  
    1!f'nS  
     ,oG"wgf  
    uWWv`bI>x  
    总结 Wl#^Eu\g1W  
    {cv;S2  
    *.*:(7`  
     
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