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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 7Z5,(dH>  
    vE/g{~[5  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 @v_E' 9QG^  
    ;OQ-T+(T  
    i,rP/A^q  
    场景 !jY/}M~F1  
    Jpg_$~k  
    SdC505m0*  
    'KpCPOhfR  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 y2>v'%]2  
    C&D]!Zv F  
    系统构建块
    Y<3s_  
    +JZ<9,4  
    ]_I<-}?;  
    V\ch0i 1  
    组件求解器 RK(uC-l  
    $t.N |b`'  
    g3n^ <[E  
    &=fBqod  
    R<LW*8  
    U#G uB&V  
    系统构建块 qTC`[l  
    Rg)\o(J  
    j)Kk:BFFY  
    7}Z.g9<  
    总结 C yC<{D+  
    hDmtBdE  
    B;4hI?  
    ]]o7ej  
    几何光学仿真 %s$_KG!&  
    通过光线追迹 :d/Z&LXD  
    8>j+xbw  
    结果:光线追迹 SZg+5MD;X  
    z QoMHFL3  
    7qon:]b4  
    ./kmI#gaV  
    快速物理光学仿真 ]=9%fA  
    通过场追迹 @^Mn PM  
    W#e:rz8=  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6`NsX  
    T7m rOp  
    OW)8Z 60  
    +>z/54R  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 9L%&4V}BIS  
    r!Eo8C  
    )U<4ul  
    F"hi2@/TI  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 St|sUtj<r  
    {0QD-b o  
    qTqvEa^X`  
    mwbkXy;8  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 g%j z,|  
    v{H23Cfh:  
    tl;?/  
    /qI80KVnN  
    总结 N$Gx$u3Cd  
    G2a fHL<  
    "4g1I<  
     
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