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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 E_VLI'Hn?  
    D@[Mk"f  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 C^uH]WO  
    .gPE Qc+D  
    {~=Edf  
    场景 p h[ ^ve  
    G]q1_q4P1?  
     k0;ND  
    eQBR*@x  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 'BE &lW  
    3EGQ$  
    系统构建块     yGN@Hd:9  
    U1&pcwP  
     R#ayN*  
    #q2 cVN1  
    组件求解器 vB0O3]  
    MPt:bf#  
    INQ0h`T  
    } $:uN  
    sS$"6  
    *&VH!K#@{  
    系统构建块 A?{ X5` y  
    )wU.|9o]M  
     &Nx'Nq9y  
    $Iuf(J-5[  
    总结 dQfVdqg  
    $t' .  
    i?R+Ul`Q  
    P.bBu  
    几何光学仿真 |%JJ S^)  
    通过光线追迹 :[#g_*G@p  
     p7 b`Z>}  
    结果：光线追迹 K\5'pp1  
    kz]vXJ  
     qTK\'trgx]  
    _= RA-qZ"  
    快速物理光学仿真 x\qS|q\N  
    通过场追迹 nZ?BC O  
     e|:#Y^  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 vywd&7gK  
    # 4E@y<l$  
     Z5aU7  
    -uZ bVd  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 (P;z* "q  
    G{*m] 0Q  
     "kC uCc  
    et|P5%G  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ` aTkIo:ms  
    Jd_w:H.  
    5>.)7D%  
    8>.l4:`  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 1 h(oty2p  
    rK%<2i  
     @DgJxY|  
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    总结 ^p#f B4z  
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    @vWC "W  
     
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