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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 )L/0X40<.  
    J?C#'2 /   
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 C'7DG\pr  
    Ce/l[v  
    dtj+ av G  
    场景 rnyXMt.q  
    *^oL$_Y  
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    jd`h)4  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 5>6:#.f%!e  
    G^|!'V  
    系统构建块     k{F]^VXQ  
    ID: tTltcc  
     +OI<0  
    w,i?e\5  
    组件求解器 PrHoN2y5E  
    s*Nb=v.e9  
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    NDUH10Y:[  
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    系统构建块 UgL FU#  
    pZcY[a  
     @<.ei)cqb  
    KKq%'y)u^  
    总结 _\.4ofK(  
    h/Yxm2  
    j{j5TvsrY  
    ~&aULY?)]  
    几何光学仿真 I_m3|VCa|t  
    通过光线追迹 ;f~fGsH}e'  
     d6a3\f  
    结果：光线追迹 ppo0DC\>  
    x2sKj"2?@  
     R< L =&I  
    ]$u C~b   
    快速物理光学仿真 hFo29oN  
    通过场追迹 !1Hs;K  
     @eM$S5&n$  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 d>?C?F  
    K {kd:pr  
     L+S)hgUH  
    A=0{}B#  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 "IB36/9  
    Q*Y-@lZ  
     >$tU @mq  
    \%&A? D  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ?YMBZ   
    *MS$C$HOq  
    gW<6dP'v  
    nU' qE  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 c`/VYgcTqB  
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    总结 8k3y"239t  
    k33\;9@k  
    `#' j3,\6  
     
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