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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-26
    摘要 |Q@(<'8=  
    wlh%{l  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 tNOOaj9mw  
    nB[B FVkU  
    [9}<N2,9z  
    场景 :/Z1$xS  
    tu@-+< *  
    u[4h|*'"|  
    y5D3zqCG  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 O-pH~E  
    3j[<nBsn.  
    系统构建块
    $GQEdVSNo  
    ep`8LQf  
    ;*U&lT  
    teLZplC=f  
    组件求解器 E0aFHC[  
    { i4`- w  
    (JE&1 @  
    ae2I,Qt%  
    9Uz2j$p7  
    6Bd:R}yZP7  
    系统构建块 h+cOOm-)  
    .)1u0 (?  
    }N,v&  B  
    y 1Wb/ d  
    总结 V' i@N  
    BvHI}=  
    P.=Dd"La  
    ?VTP|Z  
    几何光学仿真 2$2@?]|?  
    通过光线追迹 zP@\rZ@4  
    %x}Unk  
    结果:光线追迹 *$JS}Pax  
    9I#a{%A:  
    Y[m*  
    ]C|xo.=?]  
    快速物理光学仿真 y.gNjc  
    通过场追迹 @kba^z  
    0&Iu+hv  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 eSW}H_3  
    <K/iX%b?  
    9`@}KnvB?  
    &4M,)Q (  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 `Cy;/95m  
    |h((SreO  
    >=1UhHFNI  
    YW8Odm  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 K!-iDaVI  
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    YPw=iF]  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ,ob)6P^rw  
    y>r^ MQ  
    c.>OpsF  
    ]*{tno  
    总结 7L]Y.7>  
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