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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-26
    摘要 {'h_'Y`bOQ  
    pe()f/Jx(  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 c>ad0xce6  
    )O3jQ_q=  
    X9fNGM1  
    场景 G#H9g PY  
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    4xm&pQo{V6  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 [yw%ih)  
    H9RGU~q4s[  
    系统构建块     k-"<{V  
    nr OqH  
     {A|bBg1!  
    Ic'Q5kfM  
    组件求解器 gnt45]@{  
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    &Y1`?1;nw  
    Kax#OYLpg  
    &hayR_F9  
    系统构建块 0G5'Y;8  
    |;P^clS3  
     q IM  
    FV A UR  
    总结 x;u~NKy  
    1otspOy  
    A 4j<\xL  
    nfX12y_SXL  
    几何光学仿真 -vV'Lw(  
    通过光线追迹 `(!NYx  
     GR%{T'ZD`  
    结果：光线追迹 u_.HPA  
    !.EcP=S  
     LM:)j:gS6  
    '[nmFCG%m*  
    快速物理光学仿真 XLm@etf  
    通过场追迹 J A`H@qE  
     >AG^fUArH  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 (/K5!qh  
    @EHIp{0.  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ]>D)#  
    vZ@g@zB4o0  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 xc;DdK=1X  
    zDDK  
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    |SQ|qbe=  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 4T`&Sl  
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    总结 .:y5U}vR  
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