切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 先进光刻机曝光系统光学设计 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 688阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7377
    光币
    31026
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-24
    摘要 y'E)iI*  
     wetkmd  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 QZ{:#iuig  
    tnKzg21%  
    C(?lp  
     b5H[~8mf  
    1. 案例 B>~E6j7[Mp  
    YR[Ii?  
     [0IeEjL  
      q:nYUW o   
    在VirtualLab Fusion中构建系统 E[_Z%zd^  
     \8F$85g  
    1. 系统构建模块 qtgj"4,:`  
    :.sK:W("v  
     dd$\Q  
    O gycP4z[  
    2. 组件连接器 #Q|$&b  
    J.O;c5wL  
    +%>L;'L ^X  
          uYO?Rb&}  
    几何光学仿真 a2 YdkdjT  
     78NAcP~6c  
    以光线追迹 c?z% z&  
     du47la 3  
    1. 结果：光线追迹 v_G4:tY  
    [!aHP ?-  
    TYLf..i<  
          \>jK\j  
    快速物理光学仿真 uHwuw_eK`  
     1lx\Pz@ol  
    以场追迹 b!UT<:o  
     E>7%/TIl  
    1. NA=1.4时的光栅成像 9`vse>,-hg  
    Q>z0?%B  
     5Pv>`E2^  
    n}._Nb 5  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 Ob(j_{m  
       2U#OBvNU  
    j&#p&`B  
    vguqk!eo4  
    3. NA=0.5时的光栅成像   (+Er  
       H)(Jjk-O  
    U>:p`@  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表