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    [技术]非近轴衍射分束器的设计与严格分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-03-10
    摘要 d5`D[,]d  
    =2YXh,i  
    直接设计非近轴衍射分束器仍然是一个挑战。由于衍射角相当大,元件的特征尺寸与工作波长在相同的数量级上。因此,设计过程超出了近轴建模方法。因此,在这个例子中,迭代傅里叶变换算法(IFTA)和薄元素近似(TEA)用于衍射元素的初始设计结构,和傅里叶模态方法(FMM)随后应用于严格的性能评估。 ZZ T 9t#~  
    dkeMiL m  
    q7I!wD9Cff  
    |7Qe{  
    设计任务 6  $`l  
    UY .-Qt  
    使用近轴近似的衍射1:7×7分束器的初步设计通过严格分析,进一步优化零阶均匀性和影响 Xc4zUEO9  
    < FY%QB)h  
    j<R&?*  
    t*)!BZ  
    光栅级次分析模块设置 D G|v' #  
                           DS_0p|2  
    a}iP +#;  
    使用常规的分束器会话2编辑器,VirtualLabFusion提供了一个指导工具,允许用户一步一步地指定所有影响分束器设计的参数 X3~` ~J  
    z`p9vlS[  
    q,> C^p|2b  
    9aX!<Z  
    QKhGEW~G  
    1. 通过应用设计带中的结构设计,所得到的传输函数可以转换为结构轮廓。 0M?zotv0#  
    2. 对于此转换,使用了薄元近似(TEA)。因此,所得到的结构与初始相位函数成正比。 T^{=cx9x9  
    3. VirtualLab Fusion提供计算出的形式已经预设在光路中。 d\zUtcJwC  
    4. 要在不同的模拟场景中使用这种结构,需要从组件内部获取实际的采样表面或指定的堆栈。 ZUvc|5]  
    nPDoK!r'  
    ]re}EB\Rs  
    衍射分束器表面 c?KIHZ0  
    itg"dGDk  
    !R@jbM  
    ML0_Uc3en  
    为了进一步评估,使用了通用光栅光学设置,其中加载之前保存的堆栈。光栅光学装置提供了独特的工具、组件和分析仪,以进一步研究给定周期结构的特性和性能。 8n:N#4Dh^  
    Q- w_ @~  
    suYbD!`(  
    g9=_^^Tg  
    ddbQFAQQQ  
    =pTTXo  
    衍射光束求解器-薄元素近似(TEA) 2dK:VC4U  
    6!N2B[9  
    :D eJnE  
    y7R=zkd C9  
     一般光栅组件提供了薄元近似(TEA)和傅里叶模态方法(FMM)作为解决模型给定的光栅。 H/Rzs$pnv  
     薄元近似通常产生更快的结果,当结构小于波长的5倍,可能有精度问题,。 8'NT_NPNb  
     傅里叶模态方法允许一个严格的模拟,但需要更高的数值计算。 OJhMM-  
    9p1@Lfbj  
    '&2-{Y [!  
    `m #i|8  
    光栅级次和可编程光栅分析仪 %;|dEY  
    %$'fq*8b  
    REh\WgV!u  
    光栅级次分析仪提供了所有衍射阶的效率的概述,作为许多可能的输出。 SBdd_Fn  
    f0R+Mz8{  
    `C$QR 8  
    使用可编程光栅分析仪,用户可以指定应计算的值。例如:总效率、均匀性误差、0阶效率 EWY'E;0@5  
    jc\y{I\  
    Rg+# (y  
    设计与评估结果 1Dhu 5ht  
    相位功能设计 %|1s9?h7\  
    结构设计 JT~Dr KI_  
    TEA评价 \ H#"  
    FMM评估 _Vf>>tuW  
    高度标度(公差)
    vp9wRGd  
    ggm'9|  
    通用设置 2E`mbT,v&  
    7%[ YX  
    /k(wb4Hv  
    提供多次运行文档,允许用户执行任意数量的设计,并提供根据特定标准筛选结果的选项。 JIHIKH-#  
    通过这种方法获得了以下三个结果:我们将对其进行进一步评估。
    B|8|f(tsSa  
    [LUqF?K&  
    iq^;csyKb  
    纯相位传输设计
    B(5>H2  
    <M}O&?N 8x  
    Hs_7oy|P  
    +@H{H2J4  
    结构设计 &FJr?hY%  
    -yTIv* y  
    p )]x,F  
    Hl'AnxE  
     rvK%m_r  
    更深的分析 xI/8[JW*  
    •高度剖面的缩放对零阶有很大影响。 ?;.=o?e9  
    •可以利用这一点来纠正零阶不期望的效率,从而改善均匀性。 M4CC&?6\  
    •参数运行是执行此类调查的最佳工具。 6V}xgfB  
    o^MoU2c  
    @8+v6z  
    {"2CI^!/U.  
    使用TEA进行性能评估 E7_OI7C  
    p=zTY7L  
    F%af05L[  
    B#35)QI  
    使用FMM进行性能评估 -YmIRocx  
    {,Rlq  
    Cud!JpL  
    LafBf6wds  
    进一步优化–设计#1的零阶阶次优化 G;/l[mvh,  
    9sd}Z,l  
    B7YE+  
    ;:+2.//  
    进一步优化–设计#2的零阶阶次优化 e=eip?p  
    ^tI&5S]nE  
    ^U96p0H"T  
    a2kAZCQ  
    进一步优化–设计#3的零阶阶次优化 P=\Hi.]%  
    b!`Ze~V  
    <h}x7y?  
    mZmEE2h  
    VirtualLab Fusion技术 s.n:;8RibP  
    L/I ] NA!U  
    U@{>+G[  
     
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