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摘要 h3?>jE=H \?xM%(:<Q 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 r].n=455[ )^ah, ;(
B)JMughq_ JsJP%'^/R 任务说明 qbv\uYow3k kUd]8Ff! FiUQ2w4 ybBmg'198 简要介绍衍射效率与偏振理论 a^R?w|zCX 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 a^%iAe 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: (P|[<Sd eYUb>M) 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 r2=@1=?8 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: [YOH'i&X /$c87\
因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 l0Q5q)U1A 2ioHhcYdJU 光栅结构参数 hne@I1 研究了一种矩形光栅结构。 ;,f\Wf"BW 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 B>53+GyMV 根据上述参数选择以下光栅参数: X8)k'h 光栅周期:250 nm vXJPvh< 填充因子:0.5 Scrj%h%[ 光栅高度:200 nm 6("_}9ZOc 材料n_1:熔融石英(来自目录) xuioU 材料n_2:二氧化钛(来自目录) W"NI^OX cC/h7odY sINQ?4_8T xp^RAVXq` 偏振态分析 hF2e-- 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 S{=5nR9 j 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 1/}H
0\9' 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 j,0`k `c &K/?# j?K$w` 模拟光栅的偏振态 J2z/XHS <*(Z}p
!..<_qfw T\l`Y-vu 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: _uIS[%4g 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 eEZgG=s 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 *[si!e% 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 mnpk9x}m 8 .%0JJ .3 Passilly等人更深入的光栅案例。 TLwxP" Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 *&_*G~>D 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ;(i6 X) :iE b^F}
f[o~d`z UoT`/. 光栅结构参数 As,`($= 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Y1PR?c
Q 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 y'2|E+*V 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 '`jGr+K,wU 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 \g}]u(zg%
xM jn=\} Os9SfL 光栅#1——参数 6
U.Jaai: 假设侧壁倾斜为线性。 9?l a5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 t`o"K 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 R"t#dG]1t 光栅周期:250 nm h@%Xy(/m' 光栅高度:660 nm <C`bf$ak 填充因子:0.75(底部) !rnjmc 侧壁角度:±6° hP6f n_1:1.46 ]1
f^ SxSI n_2:2.08 # h; 2`=jKt
rq%]CsRY5 !Tnjha* 光栅#1——结果 wps/{h, 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 }_+XN"}C 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
x=*Y| rS1 gFGrj
<6Q^o[L {ZeY:\G~ 光栅#2——参数 w'@gzK 假设光栅为矩形。 *;A ;)' 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Y|tHU'x 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 p4VARAqi 光栅周期:250 nm ZLQmEF[> 光栅高度:490 nm 0%f}Q7*R 填充因子:0.5 V(S7mA:T n_1:1.46 T@W:@,34 n_2:2.08 2C
S9v ^+(5[z fK/: $LXa] 光栅#2——结果 Nc+0_|, 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 "c%wq0 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 yy3rh(ea '{d_q6,% LW1 4 'A}
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