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摘要 -FwOX~s/' <`BUk< uf# 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 TeQpmhN 4~D?F'o
(Ori].{C.J _E3*; 任务说明 4\>Cnc{ :dK/}S0 LEG
y1L VGkwrS;+I 简要介绍衍射效率与偏振理论 MC^H N w 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 fs\l*nBig 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: ,'[0tl}8K H{yeN 5
其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 Dr&2qX! 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: S-GcH 1Jt5|'tl 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Hr:WE+' 3V2"1Ic 光栅结构参数 USv: +
. 研究了一种矩形光栅结构。 p1q"[)WVn^ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 n)gzHch 根据上述参数选择以下光栅参数: YP/BX52v 光栅周期:250 nm h,45-#+ 填充因子:0.5 o/
ozX4C 光栅高度:200 nm :>] =YE 材料n_1:熔融石英(来自目录) GG-7YJ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) %N04k8z WL:CBE# !ffdeWHR f.4r'^ 偏振态分析 9 "7(Jq 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 u,I_p[`E 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 )l~:Puvh 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 (
$A0b 1:(qoA: q,(U 8 ,3 =|a|p 模拟光栅的偏振态 9KkxUEkW x\T 9V~8a
PRg^E4 rOHU)2 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: u_shC"X: 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 .5Sw 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 wylbs@ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 kZ~ 0fw- cks53/Z Passilly等人更深入的光栅案例。 /}t>o*
x Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ZCVwQ#Xe+ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 78T9"CS }8`W%_Yk
+uZ,}J o`,|{K$H 光栅结构参数 q$x$ 4 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 9.)*z-f$ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。
~$cz`A 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 kV9S+ME 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 I6@98w}"
: .Y oe$&X& 光栅#1——参数 1$mxMXNsJ 假设侧壁倾斜为线性。 5P'o+Vwz 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 7/C,<$Ep 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 $De1 4 光栅周期:250 nm qRi;[` 光栅高度:660 nm "x~VXU%xU 填充因子:0.75(底部) _sLSl;/t 侧壁角度:±6° x\0(l5> n_1:1.46 DD5S
R n_2:2.08 7m='-_w)?w "u^%~ 2
d^b(Uo=$ PY.4J4nn| 光栅#1——结果 dZ^(e0& :H 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 *WTmS2?'h 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 J5Pi"U$FkY ygI81\D
_%M+!Ltz CVxqNR*DN 光栅#2——参数 y-C=_v_X 假设光栅为矩形。 xwvg@ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ,yPs4',d 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 XL=Y~7b 光栅周期:250 nm 3QM; K^$ 光栅高度:490 nm ly_@dsU' 填充因子:0.5 `eZ
+Pf". n_1:1.46 /w[B,_ZKTk n_2:2.08 pX 4:WV -O&u;kh4g +`jI z'+ HgVPyo 光栅#2——结果 8nV#\J9 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 y&A0}>a:d 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 A8|DB@Bi MawWgd*
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