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摘要 !g.?+~@ $~ >/_<~ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 DqJzsk'd3 W"
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qg06*$% ,I2x&Ys&. 任务说明 I^GZ9@UE L^FQ|?* I3.cy i Q)/oU\ 简要介绍衍射效率与偏振理论 1CR)1H 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
N Zu2D 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: q/h, jM TFZxk 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 =h>jo&=Wad 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: (|2:^T+ J1u&Ga 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 jmBsPSGIC 0woLB#v9 光栅结构参数 wM``vx[/ 研究了一种矩形光栅结构。 ]<BT+6L 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 cK1 Fv6V# 根据上述参数选择以下光栅参数:
|W\U9n 光栅周期:250 nm YXLZ2-%ohZ 填充因子:0.5 ;S?ei>Q 光栅高度:200 nm 5v[2R.eT- 材料n_1:熔融石英(来自目录) w }=LC#le 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 8b:GyC5L S}3? I]-"Tw {O!B8a
偏振态分析 W_L;^5Y;m 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 v;nnr0; 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 SUb:0GUa 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 E#~J"9k98 Ez+8B|0P #G]g qQwf#& 模拟光栅的偏振态 X?$"dqA sZ>0*S
BC)1FxsGf ':7gYP*v 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: ]64pb;w"$D 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Kut@z>SK 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 w\1K.j=>|N 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 6(/*E=bOKV 97pfMk1_ Passilly等人更深入的光栅案例。 GGU>={D) Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 P>hR${KE 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 N (0%C? W.c>("gC
!}hG|Y6s ODxCD%L 光栅结构参数 e3k58 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 8'Iei78Ov 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 1oI2 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 hO2W!68 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 T*%O\&'r
I`nC\%g ub]s>aqy 光栅#1——参数 d^Rea8 假设侧壁倾斜为线性。 :pLaxWus! 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 FK@Gd)( 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ,7)zavA 光栅周期:250 nm G5NAwpZf 光栅高度:660 nm m U= 3w 填充因子:0.75(底部) #kgLdd" 侧壁角度:±6° sn8l3h) n_1:1.46 eyy%2>b n_2:2.08 <=!FB8 . -Np}<O`./
= Atyy eMtQa;Lc9o 光栅#1——结果 x$z>.4 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ZyV^d3F@$ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 +o]J0Gu P} w0=
oK3PA 23X-h#w 光栅#2——参数 ,M Ugww!. 假设光栅为矩形。 SP;1XXlL 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 p:
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k 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 Oo/@A_JO@ 光栅周期:250 nm P"|-)d 光栅高度:490 nm H-3*},9 填充因子:0.5 yJdkDVxYr n_1:1.46 \eXuNv_ n_2:2.08 ~&D5RfK5f 1]&{6y =3=8oF x8 e
3TKg 光栅#2——结果 ,U>G$G^ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 1aezlDc* 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 7>3+]njw ^@<Ia-x SmV}Wf
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