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摘要 d(&vIjy :=* -x 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 8<P.>u /c09-$M
REa%kU Z"P{/~HG 任务说明 =%bc;ZUu nC z[#t {T$;BoR#O
Cnc77EUD 简要介绍衍射效率与偏振理论 z*FlZLHY 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 4>(?R[:p) 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: "?]5"lNC| a].Bn#AH!C 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 u*"tZ+|m 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: S_^ "$j 9,,1\0-T* 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 %o~zsIl c45Mv_ 光栅结构参数 _ TUw0:& 研究了一种矩形光栅结构。 @NO&3m] 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 3b|.L
Jz+ 根据上述参数选择以下光栅参数: ^ K/B[8 光栅周期:250 nm %e_WO,R 填充因子:0.5 !\p-|51 光栅高度:200 nm F
M`pPx 材料n_1:熔融石英(来自目录) DK:d'zb 材料n_2:二氧化钛(来自目录) A+?n=IHh VGTo$RH ^y&l!,(A j&8U:Q, 偏振态分析 #*w$JH 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 E]Kd`&^} 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 2-2'c?% 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 Z$2mVRS`c SJw0y[IL6( fE7Kv_N-% 2 !{P< 模拟光栅的偏振态 enZW2o97c <&:3|2p
(RGl, x: brZ3T`p+.P 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 7GKeqv 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 {Ke3 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 iTD{ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 10*U2FY)] m`n51i{U Passilly等人更深入的光栅案例。 I4u'b?*
je Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 S# SA :>8s 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 InRn!~_N AX[/S8|6
a]75z)XR Y ||!V 光栅结构参数 SxMh ' 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 jt?R
a1Z 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 cpf8f i 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 @"Do8p!*(6 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 g~N)~]0{
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z**M \\)3:1X 光栅#1——参数 &AA u: 假设侧壁倾斜为线性。 tBdvk>d 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 -j<m0XUQ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 g`\Vy4w 光栅周期:250 nm
RtK/bUa 光栅高度:660 nm N\mV+f3A@, 填充因子:0.75(底部) SrU,-mA W 侧壁角度:±6° {_PV~8u n_1:1.46 cND2(<jx: n_2:2.08 6]na#< h1J-AfV
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Kcr UI |D?z< 光栅#1——结果 h|_G2p^J+" 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 e(j"u;= 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 lYU_uFOs\ (Z
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o6 =v1s@5;~ 光栅#2——参数 $O7>E!uVD 假设光栅为矩形。 >L)Xyq 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 H<dm;cU 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 Ci=c"JdB 光栅周期:250 nm [JsQ/|=z 光栅高度:490 nm =OTwP 填充因子:0.5 ^25$=0 n_1:1.46 P !6r`d n_2:2.08 )";g*4R[ ]'MLy#9 r's4-\ Ch^Al2)= 光栅#2——结果 :@ 19,.L 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 O zY&^:> 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 q48V|6X'q zLC\Rc4 rn U2EL
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