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摘要 ,"6Bw|s dnEIR5%+. 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ~PaEhj&8 Os)jfKn2
Nuc;Y xxnvz 任务说明 4F[4H\>' B/Jz$D ~&}e8ah2 E`0mn7.t 简要介绍衍射效率与偏振理论 ]1Wh3C 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 #)3luf3G
如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: k7L-J #uRj9|E7 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 fBj-R~;0 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: \v\f'eQ RpmOg
因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 e]9Z]a2 {l0[`"EF 光栅结构参数 8]@$7hy8 研究了一种矩形光栅结构。 3Q0g4#eP 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 5>Kk>[|. 根据上述参数选择以下光栅参数: OrC}WMhd 光栅周期:250 nm MpNgp)%> 填充因子:0.5
R$|"eb5 光栅高度:200 nm ,1K`w:uhS 材料n_1:熔融石英(来自目录) &~Hx!]uc 材料n_2:二氧化钛(来自目录) j^1Yz}6nR W1;QPdz: @ajt
D-_2 VY#nSF` 偏振态分析 =&K8~
现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ,=IGqw 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 @S<6#zR 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 K[q{)>,9 ln1!%B; Ndz'^c N^Hj%5 模拟光栅的偏振态 ''Y'ZsQ; %lK/2-
`GU Gy. b |Cm6RH$( 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: yM2}JsC 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 8wEUly 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Nsf>b 8O 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 xNd p]u gyz_$T@x Passilly等人更深入的光栅案例。 }vXiq T Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ?E}9TQ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 @ogj -ol& .du2;`[$r
e>T;'7HSS" jwL\|B oE 光栅结构参数 OLZs}N+ ;] 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ZLZh$eZZ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ;XIDu6 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 q o6~)Aws 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 (O$il
{ePtZyo0 o-
v#Zl 光栅#1——参数 GIvl| 假设侧壁倾斜为线性。
m:D0O]2 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 [G",Yky 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 JJHO E{% 光栅周期:250 nm w9w=2 * 光栅高度:660 nm X #>:9 填充因子:0.75(底部) M?_7*o]! 侧壁角度:±6° m-2!r*(zt n_1:1.46 Itz[%Dbiq9 n_2:2.08 qi*Dd[OG Oz4vV_a&'
|ju+{+ V!Pe%.> 光栅#1——结果 Ay6]vU 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 n-u
HKBq 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 f hjlt# %Jji<M]
/Un\P ,R\e x =c 光栅#2——参数 .L~
NX/V 假设光栅为矩形。 y(wb?86#W5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 25j?0P"& 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 jmG)p|6 光栅周期:250 nm I|l5e2j 光栅高度:490 nm t2Px?S? 填充因子:0.5 kni{1Gr n_1:1.46 cGyR_8:2cv n_2:2.08 \fsNI T/ PLJDRp 2o Zb7%$1)L~ CofTTYl 光栅#2——结果 ,e^~(ITaq 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 8,IQ6Or|-2 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 {9FL}Jrt u+O"c h[;DRD!Z
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