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摘要 V2SHF c :2 w(BVi 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 >|pN4FS +,_%9v?3
0m,q3 O9*l6^Scw 任务说明 =p[a Cb
i P# |}]oG% p=[SDk` p4@0[z' 简要介绍衍射效率与偏振理论 489xoP 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 48,uO! 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: xC9?Wt' gh-i|i, 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 -Rwx`=6tV 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: XFv^jSF uE}$ZBiq 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 GvBmh . e8eNef L$ 光栅结构参数 !-m 'diE 研究了一种矩形光栅结构。 25;(`Td5 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 E5IS<. 根据上述参数选择以下光栅参数: LMNmG]#! 光栅周期:250 nm mgTzwE_\ 填充因子:0.5 :W9a t 光栅高度:200 nm } J`cRDO 材料n_1:熔融石英(来自目录) A`* l+M^z 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 5FE& >uxAti\ NcX`*18 hGcu(kAC, 偏振态分析 I9<%fv 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 9w6 uoM 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 Wjli(sT#- 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 VV/aec8 =z4J[8bb )|GYxG;8C 3pe1"maP 模拟光栅的偏振态 7b7WQ 7u vwzElZ{C:v
30O7u3Zrb ;?v&=Z't. 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: V}ls|B$Y 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 T_d)1m fl 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 J(SGa Hm@ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 >[ g=G >2ha6A[ Passilly等人更深入的光栅案例。 fVJWW): Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 rl
x6a@MiD 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 {$V2L4 <`u_O!h
RN$>!b/ Yq'D-$@ 光栅结构参数
QQt4pDir> 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 g""Ep 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 iz 0: 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 8~F?%!X 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 I]%Kd('
j_h0hm] TuC 光栅#1——参数 6ld /E 假设侧壁倾斜为线性。 {&a6<y#- 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 P-DW@drxF 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 P26"z))~d 光栅周期:250 nm 211V'|a_> 光栅高度:660 nm 5}b)W>3@` 填充因子:0.75(底部) @)wsHW%cjz 侧壁角度:±6° =mSu^q(l n_1:1.46 \uO^wJ} n_2:2.08 #N;&^El LQR^lD+_=
"ji+~%`^[t h"[:$~/UJ 光栅#1——结果 IG:2<G
这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 6
$`l 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 v57<b&p26 Xc4zUEO9
1vS-m x j<R&?* 光栅#2——参数 n}-
_fx 假设光栅为矩形。 D G|v'# 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 DS_0p|2 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 2XEE/]^ 光栅周期:250 nm /<%EKu5 光栅高度:490 nm y;(G%s1 填充因子:0.5 #. 71O#! n_1:1.46 [Zzztn+ n_2:2.08 cc8Q} ou{V/?rb h
lSav?V_ F%.UpV, 光栅#2——结果 { `xC~B h 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 IfT: 9
& 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 %xKZ"#Z#K VGc.yM)&
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