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摘要 c)6m$5] r..iko]T 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 g{]0sn# Y#ap*
?um;s-x) [r\Du|R-* 任务说明 kf\PioD8 ('4_
xOb /e5O"@ T8?Ghbn 简要介绍衍射效率与偏振理论 p;`>e>$ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。
7~G9'P< 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: XFVE>/H p}}R-D&K 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 )W,aN)1) 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: n K1Slg#U D=A&+6B@- 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 h6L&\~pf G{As,`{ 光栅结构参数 4@+`q * 研究了一种矩形光栅结构。 VD;01"#' 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 kYE9M8s; 根据上述参数选择以下光栅参数: (U DnsF 光栅周期:250 nm ;>%r9pz ~ 填充因子:0.5 f=l rg KE 光栅高度:200 nm Fk&c=V;SU 材料n_1:熔融石英(来自目录) ueogaifvB 材料n_2:二氧化钛(来自目录) "@^k)d$ `z}?"BW| +qN>.y!Y nUaJzPl 偏振态分析 xWH.^o," 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 c8 )DuJ#U 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 zF`0J 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 M5LfRBO :^lI`9'*R etQCzYIhn dohA0 模拟光栅的偏振态 ,hDWPs2S dM.f]-g
A7{\</Z R3f89 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: B&M%I:i 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Qab>|eSm 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 \k7"=yx 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 n1ZbRV df8k7D;~e Passilly等人更深入的光栅案例。 q~F| Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 c1(RuP:S 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Hzm:xg |w~nVRb
/obfw^ oi7@s0@ 光栅结构参数 P7bMI e 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 *gb*LhgO 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 b<[Or^X
] 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 88O8wJN 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ](]i 'fE>
0@0w+&*"@ KJUH(]>F 光栅#1——参数 gT{Q#C2Baw 假设侧壁倾斜为线性。 c%
-Tem'# 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ]Jg&VXrH 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 _IHV7*u{; 光栅周期:250 nm IxN9&xa 光栅高度:660 nm qCC.^8 填充因子:0.75(底部) _#E0g'3 侧壁角度:±6° un"Gozmt5 n_1:1.46 W&W5lArr n_2:2.08 .bl/*s J9nX"Sb
IJp-BTO{V #4NaL 光栅#1——结果 8mrUotjS 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 oAVnK[EMq` 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 VR 8-&N 0cH`;!MZ
s-!ArB, ea2ayT 光栅#2——参数 .WJYQi 假设光栅为矩形。 @Sn(lnlB 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 j?\Qh 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ./Zk`-OBT 光栅周期:250 nm LKB$,pR~1l 光栅高度:490 nm CJx|?yK2 填充因子:0.5 Xf]d. : n_1:1.46 i v38p%Zm n_2:2.08 qH>d ;%9 |kU 3AtGy'NTp 1z4OI6$Af 光栅#2——结果 Yx%Hs5}8 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 K&]G3W%V 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 h
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