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摘要 %@rh\Z PD/~@OsxU 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ' !_44 WV&BZ:H
"0/OpT7h7 h.7 1O"N 任务说明 atN`w=6A` Cu|n?Uk _6(zG.Fg >ZNL
pJQ 简要介绍衍射效率与偏振理论 \T[*|"RFZ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 z2dM*NMK 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: UW>~C J#X 7Ss 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 >c1mwZS; 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: n"MFC ;N/c 5+ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 MWB uMF VvltVYOZA 光栅结构参数 Hu'c)|~f 研究了一种矩形光栅结构。 Az.Y-O<$\ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 2cmqtlW" 根据上述参数选择以下光栅参数: ?`w ~1 光栅周期:250 nm M!I:$DZt 填充因子:0.5 RCmPZ 光栅高度:200 nm O&O1O>[p1 材料n_1:熔融石英(来自目录) !IGVN:E 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 7'&Xg_ -J[D:P.Z G;^iwxzhO r^
"mPgY 偏振态分析 WUHx0I 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 .KB*u*h 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 @E==~ b 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 I5bi^!i fO:*85%}7 _QErQ^` <&x_e-;b' 模拟光栅的偏振态 *PMql $ rSZWmns
cw^FOV*
3^fZUldf 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Lc.7:r 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 |C(72t?K 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 X0U6: 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ZPMEN,Dw \J13rL{< Passilly等人更深入的光栅案例。 AG9U2x Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 %r>vZ/>a 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 p,4z;.s$ D~%cf
W5x]bl# l s_i)X 光栅结构参数 aI\VqOt] 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 'kC $R;#\7 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ]>AW 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 TQEZ<B$ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ("TI~
'!Sj]+ HK-?<$Yc 光栅#1——参数 u_[Zu8 假设侧壁倾斜为线性。 f{)*" 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 bk7miRIB 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 J[B8sa 光栅周期:250 nm 2
Sr'B;`p 光栅高度:660 nm 6iTDk 填充因子:0.75(底部) %
,X(GwX 侧壁角度:±6° I#,,h4C n_1:1.46 Yw{](qG7e` n_2:2.08 8=SNLO u.arkp
0P)c)x5 s9'iHe 光栅#1——结果 Y#Z&$&n 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 #?-W. 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 OI-%Ig%C#l Z2`e*c-[E
Z$pR_dazU D,)~j6OG8 光栅#2——参数 <iMkHch 假设光栅为矩形。 7O{\^Jz1 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 |[: `izW 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 "2;UXX-H 光栅周期:250 nm \twlHj4 光栅高度:490 nm G%>[I6G 填充因子:0.5 Fdzd!r1 v n_1:1.46 N@)g3mX> n_2:2.08 TJVNR_x Jne)?Gt ?& |