摘要 vGsAM*vw6
uSXnf *^@b0f~vj 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
[@qjy*5p 8OOAPp$%| 设计任务 D,..gsg !j7mY9x+ K@n-# 连接建模技术:蛾眼结构 C"n!mr{srt \1<aBgKi =A,T:!}' 光栅阶数分析器 yH:p*|% : 0B1nk!F $'CS/U`E} 元件内场分析器:FMM #7 H0I8 -,*m\Fe} FP&Ykx~ 参数运行 h(@.bt# kJB:=iq/x$ j{FRD8]V
参数优化 b'^<0c U= GJuixy 5I[:.o0 模拟结果 /NB|N*}O) eptw)S-j 通过计算器进行参考测量 D@X"1X!F`G 9E5*%Hu_ [}Xw/@Uc; 结构内的场 N:64Gko"K m==DBh JO]?u(m01 _t]Q*i0p 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 _T.`+0UV 1h`F*:nva Edc3YSg%; 初始解决方案 #1 的参数优化 3s]o~I 2x }Uj-R3]}K DJdhOLx 最终设计 #1 的性能分析 ,e 7
~G <}&J|() 初始解决方案 #2 的参数优化 30w(uF ~~WY?I- i0\]^F 最终设计 #2 的性能分析 )Dv;,t