摘要 u-yVc*<, O}Y& @V%4k R5_xli% 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
p:kHb@ ~?l>QP|o 设计任务 8t4o}3> =K f]ZKj) @3T)J,f 连接建模技术：蛾眼结构 $\:;N]Cs~0 OAGI|`E$/- 9 b?Nlk8d 光栅阶数分析器 <# c/uIN >"}z
% # }:6$5/? 元件内场分析器：FMM pAZD>15l" PcxCal4 HN7C+e4U~ 参数运行 6S`J7 [ >)V1aLu= 9^D5Sl$g 参数优化 K<#Q;(SF U 1MVz u7 PG@Uygahu 模拟结果 .=I:cniw\r 9h bn<Y 通过计算器进行参考测量 Vdpvo;4uy 5(+9(
\x )p?p39>h 结构内的场 v; =| - y q!r4"#Y"@Z sTmY'5ry =r?#,'a 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 dc]D 8KX *|OP>N B '@a36 初始解决方案 #1 的参数优化 \R}`S`fIw` q-k~L\Ys z[E gMS! 最终设计 #1 的性能分析 e
[}m@a ko T b{U L 初始解决方案 #2 的参数优化 Z` ;.62S >}?4; :.= ) {_D 最终设计 #2 的性能分析 K]bw1K K
