摘要 {jI/9 Hd`RR3J 3MVZ*'1QM\ 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
N!,l4!M\N P|U>(9;P, 设计任务 ')V5hKb^ RI;RE/Z swA"_A8>u 连接建模技术:蛾眼结构 0%/(p?]M m+"%Jd{q STI3|}G*P 光栅阶数分析器 k5YDqGn'q ?_r"Fg;" wP9C\W; 元件内场分析器:FMM '3VrHL@@g uzsN#'7= D>Z_N?iR 参数运行 6dUP's_ ='j W|
p?KJk) 参数优化 FzIA>njt {cA )jW\' x{}m)2[ Y 模拟结果 ?`>yl4 C*!_. <b 通过计算器进行参考测量 n6}1{\ 9P$'ON'" %XeU4yg\e 结构内的场 3a0C<hW 7>LhXC voxlo>:
lzuZv$K 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 :\Z0^{ "<WSEs GFidriC 初始解决方案 #1 的参数优化 Mi/_hzZ\ N\?iU8w= #C`!yU6( 最终设计 #1 的性能分析 Yq_zlxd%F /Kvb$]F+! 初始解决方案 #2 的参数优化 :<W8uDAs +l9avy+P( 8z-Td- R6 最终设计 #2 的性能分析 {IVqV6: