摘要 ShsJ_/C2 uQO(?nCi :{x!g6bK@ 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
:vw0r` u<x[5xH+ 设计任务 {`($Q$Q1 7?+5%7- 5aa}FdUq 连接建模技术:蛾眼结构 KsZ@kTs 7sCR!0 Cm9 9?K 光栅阶数分析器 L00Sp#$\ ?.]o_L_K fLLnf].O 元件内场分析器:FMM xV"6d{+ }_Tt1iai* h<+PP]l= 参数运行 =PI^X\if88 [8{_i?wY pK-_R# 参数优化 [c,|Lw4 2,rY\ Nu_ @$2`DI{_^ 模拟结果 5cPSv?x^F@ x8\E~6`, 通过计算器进行参考测量 n ;Ql=4 45]Ym{] }IxY(`:qs 结构内的场 )6O\WB| 53g8T+`\(
e-L5=B M!;`(_2 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 ykErt%k<n Ukk-(gjX )$2%&9b 初始解决方案 #1 的参数优化 G1`mn$`kq AAIyr703cQ /vFxVBX 最终设计 #1 的性能分析 <~IH` !=8L.^5c 初始解决方案 #2 的参数优化 G%V=idU*" r[C3u[ eO|^Lu]+ 最终设计 #2 的性能分析 '6Pu[^x