摘要 WP}ixcq# +#4]o
}6G <0#^7Z 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
UH[<&v t#Th9G]1 设计任务 T.kyV| .;9jdGBf S.{fDcM 连接建模技术:蛾眼结构 I"-dTa ]bm=LA |XRImeF'd 光栅阶数分析器 -OrR $w|e #b'N}2'p#V +td<{4oq8 元件内场分析器:FMM Jy]Id*u9 -ey)J
+?t uVGa(4u} 参数运行 {Bh("wg$Lk } ~| k I.1D*!tz 参数优化 Y&K <{\vE /%!~x[BeJ> iwU[6A 模拟结果 wd/G|kNO V>Fesm"aq 通过计算器进行参考测量 ;\qXbL7 YGp)Oy}: zzJja/mp 结构内的场 \:Za[6 FbAW_Am( v8m`jxII64 e`iEy=W 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 9C/MRmv` ='}#`', $
KB 初始解决方案 #1 的参数优化 aE)by-' *)'V vu< &$=! dA 最终设计 #1 的性能分析 px=]bALU bAEg$A 初始解决方案 #2 的参数优化 QB&BTT=! AOb]qc wfR&li{ 最终设计 #2 的性能分析 ;JT(3yK4>p