摘要 B-*E:O0y K7e4_ZGI .}k(L4T|= 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
FG%j{_Ez .6m "'m0; 设计任务 li]
6Pj, dI*'!wK iB1i/l 连接建模技术:蛾眼结构 A])P1c. 7" ?\/qeGW6G 1z*kc)=JF8 光栅阶数分析器 Bi~:>X\[^6 kvGCbRC G\/"}B:( 元件内场分析器:FMM Q}*y$se! H^~.mBP
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sM\lO 参数运行 m,> [4+q+ ?$z.K>S5 参数优化 S2C]?6cTq ~~F2Ij -6=<#9R 模拟结果 D H^T x Y-~~,Yl~ 通过计算器进行参考测量 td{O}\s7D PfG`C5
d }:z5t,u6 结构内的场 6<Hu8$G| k_GP>b\"k la$%H<,7 !EF(*~r!9L 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 ]Z4zF"@ rrs"N3!aT ,Vd7V}t 初始解决方案 #1 的参数优化 =y%rG :! X6RQqen3: uXQ >WI@eF 最终设计 #1 的性能分析 ]M,06P>? 6'OO-o 初始解决方案 #2 的参数优化 Q;h3v1GC\P +`bC%\T8? ad n|N 最终设计 #2 的性能分析 >O]s&34