摘要 .$]%gjIBCl xtq='s8e f#>ubmuI^ 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
rf\A[)< : r5w y] z^ 设计任务 7SVq fWp JlMD_p A 0D.qc8/V4. 连接建模技术：蛾眼结构 ]>_Ie?L)< @gM>L xj 5vSJjh S 光栅阶数分析器 ^hy Y,X {9_} i#,vR .$~zxd#zo 元件内场分析器：FMM [$iKx6\ + r< d z Bsc&# 参数运行 j~; kh_ @o/126(k DnI31!+y 参数优化 > 3SZD YYs /r %V;B{?>9zB 模拟结果 Lbwc2 Q,.- }bA@ QEJ 通过计算器进行参考测量 @b@# o {wq~+O B{6wf)[O 结构内的场 L5{DWm~@ xZc].l6 sCrOdJ6| $! q(-+( 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 knb 9s `wR \.l8]LH %K/zVYGm& 初始解决方案 #1 的参数优化 Rv=rO| &] YQ
_]Jv k I|eY eJ3 最终设计 #1 的性能分析 B3 NDx+%m 8}_M1w6v 初始解决方案 #2 的参数优化 ;GF+0~5> W m#F~<$ +`]AutNv 最终设计 #2 的性能分析 K@R *
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