摘要
z'5 fQw=z$ ! bX 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
@c>MROlrlF {uqP+Cs 设计任务 *m'&<pg]X w`/~y
$P #KL// 连接建模技术:蛾眼结构 9'vf2) " z4]z3U<}3] I;{Ua* 光栅阶数分析器 + =U9<8 |b!Bb<5 xHkx rXqeI 元件内场分析器:FMM A'n7u'6= g/i.b& cA90FqUH 参数运行 po*r14f T-js* PFbkkQKsT 参数优化 MTbCL53!- Izfq`zS+\s #zb6 7mg~ 模拟结果 [XP\WG>s |uJjO>8]| 通过计算器进行参考测量 (|tR>R.Wxg <yw=+hz[u M'NOM>8 结构内的场 MiMDEe%f% Ozsvsa "DecS:\ N=@8~{V. 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 ^>y|{;` 8&7zV:= +a+DiD>./ 初始解决方案 #1 的参数优化 uPb. uG DeQZDY // Q_k'7Z\g$ 最终设计 #1 的性能分析 Bv7os3xb &i*e&{L7 初始解决方案 #2 的参数优化 TH~"y kr44@!s+' ]];LA!n 最终设计 #2 的性能分析 }e>OmfxDBt