摘要 3FT%.dV^ 1+~JGY# M#LQz~E 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
bW(+Aw=O |R8=yO%( 设计任务 guz{DBlK PVP,2Yq! \(Dq=UzQI 连接建模技术:蛾眼结构 ^m;dEe&@F 7}OzTup d)1)/Emyj 光栅阶数分析器 |RDmY!9& w$n\`rQ \HLI
y 元件内场分析器:FMM ,DK |jf SweaERl ?BT\)@h 参数运行 5!$m3j_,]? S+3'C %^n9Z/I 参数优化 mr6/d1af_ 0,)B~|+ ML'4 2z
Y 模拟结果 y3F13 Z@% wUWSW< 通过计算器进行参考测量 34-QgE TC[_Ip& `2c>M\c4U 结构内的场 }hrLM[ 1|bu0d\] :*gYzk8 AVVL]9b_2 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 [hTGWT3 OSk:njyC[ lwYk`' 初始解决方案 #1 的参数优化 ";E Mu(IXb #u~s,F$De 0* <gGC 最终设计 #1 的性能分析 +5H9mk K-IXAdx 初始解决方案 #2 的参数优化 6kuN) b/Y9fQn ?P@fV'Jo 最终设计 #2 的性能分析 K&0op 4&