摘要 r&-m=Kk$ 'mI'dG (F7(^.MG 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
R+gz<H.Q Q1V9PRZX 设计任务 }@if6(0 A!1;}x ]weoTn: 连接建模技术:蛾眼结构 jYNrD"n l
& Dxg k
X {0y 光栅阶数分析器 iy""(c =PGs{?+&O (EPsTox 元件内场分析器:FMM q2HYiH^L `3p~m, bINvqv0v 参数运行 8H[:>;SI z;@*r}H y
qtKy 参数优化 -i-? .: \EseGgd21 Vh>Z,()>>@ 模拟结果 @cU&n6C@ <\?wAjc, 通过计算器进行参考测量 R$zH] Fl(T\-Eu tHLrhH<w 结构内的场 +iOKb c' e<r,&U$ O|_h_I-2 HSq}7S&U 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 =B.F;40 ftH:r_"O# A$6$,h 初始解决方案 #1 的参数优化 @JdZ5Q h=-"SW 3_A
*$ 最终设计 #1 的性能分析 ! VjFW5'{ 1?Z4K/ 初始解决方案 #2 的参数优化 L5MzLE&~ |JCU<_< A_KW(;50 最终设计 #2 的性能分析 tDUwy^j